[发明专利]印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法

权利要求书

1.一种印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)将水合二氧化钛调成浆；

(2)调节印制电路板酸性蚀刻废液的pH值为0.5～3.0；

(3)向上述调节好pH值的印制电路板酸性蚀刻废液中加入所述水合二氧化钛浆体，搅拌反应5～45min，然后过滤。

2.根据权利要求1所述的印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于：在所述第(2)步调节PH值之前，在搅拌的条件下，往印制电路板酸性蚀刻废液中慢慢加入氧化剂或鼓入空气，直至废液变澄清或透亮。

3.根据权利要求2所述的印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于：所述氧化剂采用双氧水、(NH₄)₂S₂O₈、K₂S₂O₈、KClO、KClO₃、NaClO、NaClO₃或O₂。

4.根据权利要求1或2或3所述的印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于：当印制电路板酸性蚀刻废液中砷的含量≤50mg/L时，水合二氧化钛的用量是1～5kg/m³印制电路板酸性蚀刻废液。

5.根据权利要求1或2或3所述的印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于：在所述第(1)步，按1kg水合二氧化钛/kg水的用量，用水把水合二氧化钛调成浆。

6.根据权利要求1或2或3所述的印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于：所述水合二氧化钛选用偏钛酸。

7.根据权利要求1或2或3所述的印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于：在所述第(2)步采用印制电路板碱性蚀刻废液、碱式氯化铜、碳酸铜、碱式碳酸铜或氨水来调节印制电路板酸性蚀刻废液的pH值。

8.根据权利要求1或2或3所述的印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法，其特征在于：所述第(2)步的反应是在反应釜内进行，在过滤完之后，用少量的清水清洗反应釜内壁残留的固体。