[发明专利]足浴装置

权利要求书

1、一种足浴装置，包括有：水盆(1)、电器座(2)、叶轮(9)、驱动叶轮的电机(5)、其特征在于：叶轮(9)设置在水盆(1)内，叶轮(9)配有泵壳(6)；驱动叶轮(9)的电机(5)设置在水盆(1)外，电器座(2)内。

2、根据权利要求1所述的足浴装置，其特征在于：足浴装置上设置有臭氧发生器(12)。

3、根据权利要求2所述的足浴装置，其特征在于：叶轮(9)和泵壳(6)构成的水泵采用了涡流式泵结构。

4、根据权利要求2所述的足浴装置，其特征在于：在足浴装置的高位处设置有缓冲腔(13)，缓冲腔(13)的进气口在上端，与臭氧发生器(12)连通，缓冲腔(13)的出气口在下端。

5、根据权利要求1所述的足浴装置，其特征在于：水盆(1)带有加热装置，加热装置(14)设置在水盆(1)内。

6、根据权利要求1所述的足浴装置，其特征在于：叶轮(9)和电机(5)之间的驱动连接采用了通过联轴器(4)的有轴驱动结构，或在叶轮(9)上设置有永磁体A(10)，在与电机(5)的转子相连的装置上设置有永磁体B(11)，并与永磁体A(10)相对应，所构成的磁力驱动结构。

7、根据权利要求6所述的足浴装置，其特征在于：电器座(2)设置在水盆(1)的侧面。

8、根据权利要求6所述的足浴装置，其特征在于：水盆(1)和电器座(2)可便捷地分离和组合。

9、根据权利要求6所述的足浴装置，其特征在于：永磁体A(10)和永磁体B(11)的极性N-S方向为轴向；叶轮(9)上的两相邻近的永磁体A(10)的极性相反。。

10、根据权利要求7所述的浸洗装置，其特征在于：在电器座(2)上设置有开关，在水盆(1)上相对应的位置设置有启动该开关的装置。