[发明专利]使用微通道装置的纯化方法无效
| 申请号： | 200810142954.0 | 申请日： | 2008-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101347685A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | F·J·利派克;S·G·马罗尔多;D·V·谢奈－卡特哈特;R·A·韦尔 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯公司 |
| 主分类号： | B01D17/00 | 分类号： | B01D17/00;B01D3/00;B01D15/00;B01D53/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 通道 装置 纯化 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备超高纯度化合物的方法，该方法包括：
在至少一个微通道装置中将至少一种目标化合物与至少一种杂质化合物分离；
所述至少一种目标化合物和至少一种杂质化合物的相对挥发性小于或等于1.2；另外，所述至少一种目标化合物所达到的纯度为99.99％。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一个微通道装置是微通道蒸馏装置。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在至少一个微通道装置中进行的纯化是通过温度变换吸附进行的。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括至少一个具有芯结构的微通道装置。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述微通道装置的等板高度(HETP)小于5厘米。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，以所述至少一种目标化合物和至少一种杂质化合物的总量为基准计，所述至少一种杂质的含量减小到小于100ppm。
7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一个微通道装置与至少一个另外的纯化法结合使用。
8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述达到的纯度为99.99％的目标化合物被用于电子材料应用。
9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述达到的纯度为99.99％的目标化合物被用于电子材料应用。
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