[发明专利]一种溶解金属的溶液无效
申请号: | 200810143905.9 | 申请日: | 2008-12-11 |
公开(公告)号: | CN101748410A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 李德良;张云亮;张建国 | 申请(专利权)人: | 长沙铂鲨环保设备有限公司 |
主分类号: | C23F1/32 | 分类号: | C23F1/32 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 410007 湖南省长沙市雨花*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 溶解 金属 溶液 | ||
技术领域
本发明涉及一种溶解金属(铜、镍、锌、锡、铅及其合金,以及金)溶液的配制方法,它可应用在PCB(印刷电路板)行业的铜蚀刻制程、电镀行业的退镀工序和其它表面处理行业的相关过程中,以及金、有色金属的提取过程中。
背景技术
在印刷线路板行业的有关制程中,以及金属清洗、标牌制作等行业中的有关加工过程中,广泛使用一种溶解金属(铜、镍、锌、锡、铅及其合金,以及金)的溶液,常称为清洗液、烂板液、腐蚀液、蚀刻剂和蚀刻液等,如印刷线路板(简称PCB,下同)行业蚀刻工序使用的蚀刻液,后者惯称为铜蚀刻液或蚀铜液。在电镀行业和PCB行业的加工过程中,常有不合格镀层出现,为使该镀层下面的基材再利用,须将这样的不合格镀层(铜、镍、锌、锡、铅及其合金,以及金)溶解掉,然后重新镀上有关金属或合金,它们常称为退镀剂如退镍剂、退锡剂、退镍粉、退金粉、退铜液等。在有色金属的提取领域如含有色金属或贵金属物料(如氧化铜矿、金矿)的金属浸提领域,经常使用氨系提取剂或氰化物浸出剂,俗称浸出剂、浸提剂、浸取剂等。按以上所介绍的这些蚀刻液、退镀剂和金属浸提剂,目前存在着如下安全隐患及环境污染问题:如PCB行业在蚀刻工序使用的酸性铜蚀刻液有大量盐酸酸雾和氯气产生,PCB行业使用的碱性铜蚀刻液在该液的配制和使用时有大量氨逸出,有色金属氧化矿(氧化铜矿、氧化镍矿等)的氨浸取过程也如此;而退镍剂及黄金选冶流程中用的提取剂含有氰化钠或乙二胺或氨,前者剧毒,后者使用时则有有毒有异味的气体逸出;这些溶液使用至报废时产出的废物的达标处理更不容易。开发没有安全隐患、在其配制和使用过程中对环境的负面影响小、有利于其循环再生和多次使用的新的金属溶解液是当代的要求,也是本发明的目的。
发明内容
本发明是对溶解金属(铜、镍、锌、锡、铅及其合金,以及金)的溶液的配方进行更新,使其在配制、使用过程和使用后的处置时对环境的负面影响小,尤其有利于其循环和再生使用。
本发明的一个目的是,提供一种全新的溶解金属的溶液配方,所说的金属指:铜、镍、锌、锡、铅,以及这五种金属中的一种或多种形成的合金;另外还包括为金.
本发明的另一个目的是,提供这种新的溶解金属的溶液的使用方法。
按本发明的第一个方面,这种新的溶解金属的溶液的功能是使被溶解金属通过形成络合物而稳定在溶液中。它可应用在印刷线路板行业的蚀刻等制程中,也可应用在金属清洗、标牌制作的有关加工过程中和电镀时不合格镀层的退镀,还可应用于金矿、有色金属矿的金属提取。相关的应用领域包括:(PCB)印刷线路板行业、电镀、标牌制作、金属清洗及其它表面处理行业,以及黄金和有色金属的生产领域。
按本发明的第二个方面,上述新的溶解金属的溶液在其配方和组成上具有如下特征:
(1)上述溶解金属的溶液使用氨基酸作为核心组份,被溶解的金属是通过与氨基酸形成水溶性络合物而稳定在溶液中.
(2)上述溶解金属的溶液除含有氨基酸外,还含有以及与之匹配的pH调节剂和和氧化还原电位调节剂。
(3)上述溶解金属的溶液中,氨基酸的使用浓度范围为:10克/升至300克/升。氨基酸是一类有机物,它在分子结构上以既含有氨基(-NH2)又含有羧酸基(-CO2H)为特征。实际使用时可用一种氨基酸,也可用由两种或两种以上的氨基酸组成的混合物。
(4)上述溶解金属的溶液中,与之匹配的pH调节剂的使用浓度范围为:25克/升至250克/升。pH调节剂可以是酸,也可以是碱,还可以是酸和碱混合后的混合物如特定pH范围的缓冲液。使用的酸可以是无机酸,如盐酸、氢溴酸、硫酸、磷酸、氯磺酸等;也可以是有机羧酸,如醋酸、甲基磺酸、苯甲酸、苯磺酸、有机膦酸等;还可以是无机酸和有机酸的混合物。使用的碱可以是无机碱,如氢氧化钠、氨水等;也可以是有机碱,如吡啶、苯胺等;还可以是无机碱和有机碱的混合物。
(5)上述溶解金属的溶液中,与之匹配的氧化还原电位调节剂的使用浓度范围为:20克/升至300克/升。氧化还原电位调节剂可以是具有可变价态的过渡金属化合物如铜盐、锰盐、铁盐、钴盐等,也可以是具有可变价态的有机物如硝基化合物、亚硝基化合物等,氧化还原电位调节剂还可以是氧化剂或还原剂,如氧气或溶解在溶液中的氧、亚硫酸氢钠等。实际使用时可用一种氧化还原电位调节剂,也可用由两种或两种以上的氧化还原电位调节剂的混合物。
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