[发明专利]含有可光化固化基团的低粘度脲基甲酸酯的制备方法

权利要求书

1.制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，所述辐射固化脲基甲酸酯的残 余单体含量小于0.5重量％并且NCO含量小于1重量％，该方法包括：

1)通过使以下物质进行反应制备具有辐射固化基团的含NCO-基团的 氨基甲酸酯：

A)一种或多种含异氰酸酯基团的化合物，

B)含至少90mol％的丙烯酸羟乙酯和丙烯酸羟丙酯的混合物，其中包 括20-40mol％的丙烯酸羟乙酯，

C)任选的含有NCO-反应性基团的进一步的非辐射固化化合物；

D)任选地，在氨基甲酸酯化催化剂的存在下；和

2)在以下物质的存在下，不进一步加入含异氰酸酯基团的化合物，随 后使含NCO基团的氨基甲酸酯反应：

E)脲基甲酸酯化催化剂，和，

F)任选的叔胺，其具有至少九个碳原子，

A)中化合物的NCO基团与B)和如果使用的话C)中化合物的OH基 团的比例为1.45∶1.0至1.1∶1.0。

2.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中组分B) 为包含至少90mol％的丙烯酸羟乙酯和丙烯酸羟丙酯的混合物，且丙烯酸 羟乙酯在丙烯酸羟乙酯与丙烯酸羟丙酯的混合物中的量为20-40mol％。

3.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中组分B) 为100mol％的丙烯酸羟乙酯和丙烯酸羟丙酯的混合物。

4.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中组分 A)包含一种或多种选自六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、4，4′- 二异氰酸酯二环己基甲烷及它们的混合物的化合物。

5.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中A)中化 合物的NCO基团与B)和如果使用的话C)中化合物的OH基团的比例为 1.35∶1.0至1.3∶1.0。

6.根据权利要求1的制备辐射固化脲基甲酸酯的方法，其中脲基甲 酸酯化反应进行到反应产物的NCO含量低于0.2重量％。

7.由根据权利要求1的方法得到的辐射固化脲基甲酸酯。

8.包含根据权利要求7的辐射固化脲基甲酸酯的组合物，该组合物 选自涂料、粘合剂、印刷油墨、铸模树脂、牙用料、胶料、光致抗蚀剂、 立体光刻系统、用于复合材料的树脂和密封剂。

9.涂料组合物，其包含

a)一种或多种根据权利要求7的辐射固化脲基甲酸酯，

b)任选的一种或多种含游离或被保护的异氰酸酯基团的多异氰酸酯， 其不含当暴露于光化辐射时通过聚合与烯属不饱和化合物反应的基团，

c)任选的不同于a)中那些的其它化合物，其含有当暴露于光化辐射时 通过聚合与烯属不饱和化合物反应的基团，且任选含有游离或被保护的 NCO基团，

d)任选的一种或多种含活性氢的异氰酸酯反应性化合物，

e)一种或多种引发剂，

f)任选的溶剂，和

g)任选的助剂和添加剂。

10.用使用根据权利要求7的辐射固化脲基甲酸酯得到的涂料涂覆的 基材。