[发明专利]一种用于控制在处理腔室内处理气体的流动的装置有效
申请号: | 200810146690.6 | 申请日: | 2008-09-04 |
公开(公告)号: | CN101381862A | 公开(公告)日: | 2009-03-11 |
发明(设计)人: | 朴范洙;崔永镇;罗宾·L·泰内;金亨山;崔寿永;约翰·M·怀特;任东吉 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 控制 处理 室内 气体 流动 装置 | ||
1.一种装置,包括:
腔室体,具有贯穿第一侧壁的缝隙阀门开口;
一个或多个引流器,与该腔室体的一个或多个侧壁连接;
一个或多个阻流器,该一个或多个阻流器连接到所述缝隙阀门开口上方的第一侧壁并且从所述第一侧壁延伸,该一个或多个阻流器连接到一引流器,与该一个或多个阻流器连接的所述引流器具有穿过其中的、与该缝隙阀门开口基本上对齐的开口;以及
门,能够在覆盖该缝隙阀门开口的位置和第二位置之间移动。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,门枢轴旋转地连接到第一侧壁。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,门能够在垂直平面中移动。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,一个或多个阻流器跨越延伸过整个缝隙阀门开口的长度。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括基座和与基座分隔开的喷头,其中一个或多个引流器、基座和喷头围绕处理区域。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述喷头与用于在处理区域内引燃或保持等离子体的电源连接。
7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,在相邻侧壁上的多个引流器是分隔开的。
8.一种装置,包括:
多个引流器,从处理腔室壁延伸以围绕在基座和气体分布喷头之间的处理区域,该多个引流器中的第一引流器具有穿过其中的开口以允许衬底从中通过;
一个或多个阻流器,与第一引流器连接并远离处理区域延伸;以及
一个或多个门,能够从阻挡该开口的位置向敞开该开口的位置移动,第一引流器设置在该一个或多个门与处理区域之间。
9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,门枢轴旋转地连接到第一侧壁。
10.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,门能够在垂直平面中移动。
11.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,一个或多个阻流器跨越延伸过整个开口的长度。
12.一种装置,包括:
腔室体,具有多个侧壁及贯穿第一侧壁形成的缝隙阀门开口;
引流器,与第一侧壁连接,该引流器具有穿过其中的开口,该引流器的开口与第一侧壁中的开口基本上对齐;
在缝隙阀门开口上方的阻流器,连接在第一侧壁和引流器之间,该阻流器跨越大于缝隙阀门开口的长度;以及
基座,设置在腔室体内从而使引流器的外表面与基座的侧面对齐。
13.根据权利要求12所述的装置,其特征在于,基座与引流器为分隔开的。
14.根据权利要求12所述的装置,其特征在于,还包括连接到腔室体的多个侧壁的多个引流器。
15.根据权利要求14所述的装置,其特征在于,在相邻侧壁上的多个引流器是分隔开的。
16.根据权利要求12所述的装置,其特征在于,还包括设置在腔室体内的门,该门能够在阻挡缝隙阀门开口的位置与敞开缝隙阀门开口的位置之间移动。
17.根据权利要求16所述的装置,其特征在于,门枢轴旋转地连接到第一侧壁。
18.根据权利要求16所述的装置,其特征在于,门能够在垂直平面中移动。
19.根据权利要求12所述的装置,其特征在于,还包括与基座和引流器分隔开的气体分布喷头。
20.根据权利要求12所述的装置,其特征在于,引流器是接地的。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的