[发明专利]具备光波导路以及遮光体的热辅助磁头无效

专利信息
申请号: 200810146839.0 申请日: 2008-08-25
公开(公告)号: CN101373596A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 田中浩介;伊藤靖浩;岛泽幸司 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G11B5/127 分类号: G11B5/127;G11B5/31
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 具备 波导 以及 遮光 辅助 磁头
【说明书】:

技术领域

本发明涉及利用热辅助磁记录方式进行信号写入的热辅助磁头、具备该热辅助磁头的磁头悬架组件(HGA:Head Gimbals Assembly),以及具备HGA的硬盘装置。

背景技术

伴随着硬盘装置的高记录密度化,要求薄膜磁头的性能进一步提高。作为薄膜磁头,将磁阻(MR:Magneto Resistive)效应元件等的磁检测元件和电磁线圈元件等的磁记录元件层叠的结构,即复合型薄膜磁头被广泛地应用,利用这些元件,在磁记录介质即磁盘上读写数字信号。

一般而言,磁性记录介质是所谓的磁性微粒集合而成的不连续体,各个磁性微粒成为单磁畴结构。在此,一个记录位(record bits)由多个磁性微粒构成。所以,为了提高记录密度,必须使磁性微粒变小,减少记录位的边界的凹凸。然而,如果磁性微粒变小,则伴随着体积的减小,产生磁化的热稳定性降低的问题。

磁化的热稳定性的基准由KUV/kBT给出。在此,KU是磁性微粒的磁各向异性能、V是1个磁性微粒的体积、KB是波尔茨曼常数(Boltzmann constant)、T是绝对温度。使磁性微粒变小,也就是使V变小,在这种状态下KUV/KBT变小,有损于热稳定性。作为针对该问题的对策,考虑同时增大KU,然而,KU的增加导致磁性记录介质的矫顽力的增加。对此,磁头产生的写入磁场强度大致由构成磁头内的磁极的软磁性材料的饱和磁通量密度决定。所以,当矫顽力超出由该写入磁场强度的界限所决定的许可值时,就不能写入。

作为解决如此的磁化的热稳定性的问题的方法,有人提出所谓的热辅助磁记录方式,其在使用KU大的磁性材料的同时,通过在即将施加写入磁场之前加热磁记录介质,从而减小矫顽力,进行写入。这种方式大致可分为磁优先记录方式和光优先记录方式。在磁优先记录方式中,写入的主体为电磁线圈元件,光的放射径比磁道宽度(trackwidth)(记录宽度)大。另一方面,在光优先记录方式中,写入的主体为光放射部,光的放射径与磁道宽度(记录宽度)大致相同。即,磁优先记录方式使磁场具有空间分解能,而光优先记录方式使光具有空间分解能。

作为这样的热辅助磁头记录装置,专利文献1公开了具备滑块和光源单元的热辅助磁头,其中,滑块具有在接近磁头的层叠方向(位长方向)的位置上相对于电磁线圈元件设有光波导路的磁头部,光源单元在与该滑块不同的光源支撑基板上设有光源。在该构成中,向光波导路内导入发光元件的出射光,使其从位于介质相对面内的光波导路的光出射面出射,局部地加热磁记录介质。接着,利用电磁线圈元件,对于局部被加热且保磁力降低的磁记录介质的局部区域施加写入磁场,进行写入。

专利文献1:日本特开平2006-185548号公报

发明内容

在此,为了制作专利文献1所述的热辅助磁头,必须将光源单元重叠于滑块的介质相对面的相反侧的面(背面)之后再进行固定。这种情况下,在分别独立地试验具有磁头部的滑块和光源单元的基础上,固定品质优良的滑块和光源单元,可以制造成品率高的热辅助磁头。此外,这种情况下,由于能够将光源设在滑块的附近的离开介质相对面的位置,因而几乎不存在光的传播效率降低和装置的整体结构复杂化等的问题。

然而,在如上所述地分别制作滑块和光源单元的情况下,在固定滑块和光源单元时必须高精度地进行光源和光波导路的对位(定位)。这是因为,如果定位精度低,则导致磁记录介质的加热效率低,从而严重影响热辅助磁记录的进行。

因此,本发明的目的在于,提供一种通过极高精度地调整光源和光波导路的对位,能够实现对磁记录介质的高密度的写入的热辅助磁头、磁头悬架组件以及硬盘装置。

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