[发明专利]带有接合膜的基材、接合方法及接合体无效
申请号: | 200810148990.8 | 申请日: | 2008-09-22 |
公开(公告)号: | CN101391496A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 五味一博 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B32B7/10 | 分类号: | B32B7/10;B32B37/00;H03H3/08;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/48 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带有 接合 基材 方法 | ||
1.一种带有接合膜的基材,其特征在于,具有:
基材;
接合膜,其包含金属原子、与该金属原子结合的氧原子、和在所述金属原子及所述氧原子的至少一方结合的脱离基;
中间层,其夹在所述基材和所述接合膜之间,且厚度能够根据施加的应力而变化,
所述接合膜在至少一部分区域被赋予能量,存在于所述接合膜的表面附近的所述脱离基从所述金属原子及所述氧原子的至少一方脱离,由此在所述接合膜的表面的所述区域显示与其他的被粘附体的粘接性。
2.根据权利要求1所述的带有接合膜的基材,其中,
所述脱离基在所述接合膜的表面附近不均匀。
3.根据权利要求1或2所述的带有接合膜的基材,其中,
所述金属原子为铟、锡、锌、钛及锑中的至少一种。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述脱离基为氢原子、碳原子、氮原子、磷原子、硫原子及卤素原子、或由这些各原子构成的原子团中的至少一种。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
在所述接合膜中,作为脱离基,向铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锑锡氧化物(ATO)、含氟铟锡氧化物(FTO)、氧化锌(ZnO)或二氧化钛(TiO2)导入氢原子。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述接合膜中的金属原子和氧原子的存在比为3:7~7:3。
7.一种带有接合膜的基材,其特征在于,
基材;
接合膜,其包含金属原子和由有机成分构成的脱离基;
中间层,其夹在所述基材和所述接合膜之间,且厚度能够通过施加的应力而变化,
所述接合膜在至少一部分区域被赋予能量,存在于所述接合膜的表面附近的所述脱离基从该接合膜脱离,由此在所述接合膜的表面的所述区域显示与其他的被粘附体的粘接性。
8.根据权利要求7所述的带有接合膜的基材,其中,
所述接合膜是将有机金属材料作为原材料,使用有机金属化学气相生长法来成膜的接合膜。
9.根据权利要求8所述的带有接合膜的基材,其中,
所述接合膜是在低还原性气氛下成膜的接合膜。
10.根据权利要求8或9所述的带有接合膜的基材,其中,
所述脱离基是含于所述有机金属材料的有机物的一部分残留的脱离基。
11.根据权利要求8~10中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述脱离基以碳原子作为必要成分,且包含氢原子、氮原子、磷原子、硫原子及卤素原子中的至少一种的原子团构成。
12.根据权利要求11所述的带有接合膜的基材,其中,
所述脱离基为烷基。
13.根据权利要求8~12中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述有机金属材料为金属络合物。
14.根据权利要求7~13中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述金属原子为铜、铝、锌及铁中的至少一种。
15.根据权利要求7~14中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述接合膜中的金属原子和碳原子的存在比为3:7~7:3。
16.根据权利要求1~15中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述中间层直接接合于所述接合层。
17.根据权利要求1~16中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述中间层是弹性变形的。
18.根据权利要求17所述的带有接合膜的基材,其中,
所述中间层的贮存弹性模量为0.01~10MPa。
19.根据权利要求1~18中任一项所述的带有接合膜的基材,其中,
所述中间层的平均厚度为5~10000nm。
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