[发明专利]激光处理装置有效
申请号: | 200810149841.3 | 申请日: | 2005-04-27 |
公开(公告)号: | CN101396765A | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
发明(设计)人: | 江田幸夫;安达贞志;栗田典夫;筬岛哲也 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社;濱松赫德尼古斯股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00;B23K26/06;G02B27/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李 辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 处理 装置 | ||
1.一种激光处理装置,其包括:
激光束源,其发射激光束;
会聚光学系统,其将所述激光束会聚在介质中;以及
激光会聚光学系统,其中,根据希望将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和从所述介质的表面到希望将所述激光束会聚到的位置的距离,将满足以下公式的多个透镜专门地插入到所述会聚光学系统的发散光线和/或会聚光线的光路上或从该光路移开:
2(d2+l×f-l×d)NA=f×a,
其中,d是从会聚光学系统的入射光瞳位置到所述多个透镜的距离,
l是从所述会聚光学系统的所述入射光瞳位置到所述束源位置的距离,
f是所述多个透镜的焦距,
NA是所述束源的数值孔径,即,从会聚透镜看到的数值孔径,并且
a是所述会聚光学系统的入射光瞳直径。
2.一种激光处理装置,其包括:
激光束源,其发射平行于光轴的激光光线;
光学系统,其将所述激光光线会聚在介质中;以及
激光会聚光学系统,其中,根据希望将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和从所述介质的表面到希望将所述激光束会聚到的位置的距离,将满足以下公式的多个透镜专门地插入到所述激光光线中或从所述激光光线移开:
b(f-d)/f=a,
其中,b是来自所述束源的准直束的直径,
d是从会聚光学系统的入射光瞳位置到所述多个透镜的距离,
f是所述多个透镜的焦距,并且
a是所述会聚光学系统的入射光瞳直径。
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