[发明专利]一种光学镀膜方法以及使用该方法的光学镀膜机无效
| 申请号： | 200810150923.X | 申请日： | 2008-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN101359061A | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 杭凌侠;弥谦;刘卫国;徐均琪;梁海峰;潘永强;惠迎雪 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/35 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学 镀膜 方法 以及 使用 | ||
【权利要求书】：
1、一种光学镀膜方法，是将真空阴极电弧镀膜技术、磁控溅射镀膜技术和热蒸发镀膜技术根据薄膜种类进行组合使用，使用中被镀件始终保持在真空状态下，实时进行蒸发源的快速转换。
2、使用权利要求1所述方法的光学镀膜机，包括真空镀膜室(1)，温度控制系统(2)，膜厚控制系统(3)，气体流量提供、控制系统和薄膜蒸发系统，其特征在于：所述薄膜蒸发系统包括阴极真空电弧发生装置(4)、磁控溅射装置(5)和热蒸发装置(6)。
3、如权利要求2所述的光学镀膜机，其特征在于：所述薄膜蒸发系统还包括辅助沉积离子源装置(7)。
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