[发明专利]纳米锶铁氧体薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810151027.5 申请日: 2008-09-19
公开(公告)号: CN101367646A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: 黄英;杜朝峰;李玉青;齐暑华;黄飞 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C04B35/26 分类号: C04B35/26;C04B35/624
代理公司: 西北工业大学专利中心 代理人: 王鲜凯
地址: 710072陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 纳米 铁氧体 薄膜 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种纳米锶铁氧体薄膜的制备方法,主要以硝酸铁、硝酸锶等为原料用溶胶—凝胶法来制备纳米锶铁氧体的前驱体;以洁净的二氧化硅为基片,硝酸铁、硝酸锶为主盐,柠檬酸为络合剂,乙二醇为助络合剂,将二氧化硅基片放入前驱体——溶胶中浸泡,采用浸渍-提拉法进行制膜。

背景技术

锶铁氧体是传统的永磁材料,在微波、磁光、高密度磁记录介质等方面得到广泛的应用,但目前的研究较多的集中于锶铁氧体粉体的研究,该材料吸波性能较差;而目前使用的覆盖10~15nm的非晶碳(类金刚石)保护膜的Co基合金薄膜具有磁头与记录介质间距较大,且磁晶各向异性较低的缺点。

纳米薄膜有多种制备方法,主要可分为物理方法和化学方法两大类。其中经常使用的物理方法包括粒子束溅射沉积、磁控溅射沉积,以及新近出现的低能团簇束沉积法;化学方法包括(有机金属化合物)化学气相沉积(MOCVD)法、电沉积法、热解法和溶胶-凝胶法等。目前有报道采用射频溅射装置制备锶铁氧体薄膜,该方法制备成本高,不能进行大规模连续制备。近来,较多的报道涉及利用溶胶-凝胶法制备Al2O3、SiO2、ZrO2、SnO2等薄膜,以用于光学器件和防腐、耐蚀涂层等具特殊功能的场合。有关利用溶胶—凝胶法来制备纳米锶铁氧体薄膜及其电磁参数的研究尚未见报道。

发明内容

要解决的技术问题

为了避免现有技术的不足之处,本发明提出一种纳米锶铁氧体薄膜的制备方法,是一种厚度均匀、表面形貌优良、结合力好的纳米锶铁氧体薄膜的制备方法。

技术方案

本发明的基本思想是:是在石英基片上制备晶态纳米锶铁氧体薄膜,通过制备工艺的优化,得到高纯度的纳米锶铁氧体薄膜。在锶铁氧体薄膜中,由于粒子之间的交换相互作用非常小.有利于其用于高密度磁记录材料、吸波材料。

一种纳米锶铁氧体薄膜的制备方法,其特征在于通过以下步骤制成:

步骤1、将柠檬酸放入A容器中,放入蒸馏水,加入的蒸馏水使溶液黏度为2~4mPa·s,搅拌至完全溶解;

步骤2、将主盐硝酸铁放入B容器中,加入蒸馏水使溶液黏度为2~4mPa·s,搅拌至完全溶解;

步骤3、将主盐硝酸锶加入A容器中,搅拌至完全溶解;

步骤4、将B容器中溶液加入A容器中,搅拌半小时后缓慢加入乙二醇,继续搅拌加热使温度控制在70~80℃之间,缓慢蒸发以得到溶胶;

步骤5、将二氧化硅基片放入溶胶中浸泡,采用浸渍-提拉法涂膜。以2~2.5mm/s的速率垂直向上提拉出液面,形成溶胶膜,在干燥空气中放置后转变成凝胶膜;

步骤6、在400℃将步骤5得到的薄膜进行预烧;

步骤7、不断重复10到15次步骤5和步骤6,直至达到所需的厚度;

步骤8、将步骤7得到的薄膜在900℃进行灼烧两小时,即得到纳米锶铁氧体薄膜。

有益效果

本发明方法的特点在于(1)采用溶胶凝胶法制备,通过优化制备工艺得到了高纯度的纳米级薄膜,纳米锶铁氧体薄膜的基本组成见表2;(2)纳米锶铁氧体薄膜的晶粒度在40~60nm,晶粒度分布均匀,薄膜表面致密,由呈长棒状晶体颗粒堆垛而成;(3)纳米锶铁氧体薄膜的电磁性能优良。

该方法主要有三点优点:第一,工艺流程简单、成本低,对生产设备要求不高。第二,便于在各种不同形状的基底(片)上制备薄膜,甚至可以在粉末材料的颗粒表面制备一层包覆膜,可在较大尺寸的基片上成膜;第三,可以有效地控制薄膜成分及微观结构。

附图说明

图1:纳米锶铁氧体薄膜的FESEM图

具体实施方式

现结合实施例、附图对本发明作进一步描述:

实施例1:

表1 制备纳米锶铁氧体薄膜溶胶的配方

1.制备纳米锶铁氧体薄膜,按照表1配比称量药品;

2.将17.9g柠檬酸放入A烧杯中,放入蒸馏水,加入200ml蒸馏水使溶液黏度为2~4mPa·s,搅拌至完全溶解;

3.将主盐15.3g硝酸铁放入B烧杯中,加入200ml蒸馏水使溶液黏度为2~4mPa·s,搅拌至完全溶解;

4.将主盐1g硝酸锶加入A烧杯中,搅拌至完全溶解;

5.将B烧杯中溶液加入A烧杯中,搅拌半小时后缓慢加入14.2ml乙二醇,继续搅拌加热使温度控制在70℃之间,缓慢蒸发以得到溶胶;

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