[发明专利]具有气体缓冲均匀功能的离子源有效

专利信息
申请号: 200810155402.3 申请日: 2008-09-28
公开(公告)号: CN101685753A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 谢立 申请(专利权)人: 和舰科技(苏州)有限公司
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 孙仿卫
地址: 215021江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 气体 缓冲 均匀 功能 离子源
【权利要求书】:

1.一种具有气体缓冲均匀功能的离子源,包括气源、电弧室(1)、用于连接所述的气源及电弧室的导管(2),所述的电弧室(1)包括设置有灯丝的用于将气体电离的电弧腔(12),其特征在于:所述的电弧室的气体入口处的内部设置有气体容腔(11),所述的气体容腔(11)的进气口与所述的导管(2)连通、所述的气体容腔(11)的出气口与所述的电弧室(1)连通;

所述的导管(2)上还设置有缓冲球室(3),所述的缓冲球室(3)包括进气端和出气端,所述的进气端及出气端的至少一个上设置有莲蓬分流器(37),所述的莲蓬分流器(37)呈自根部向梢部直径逐渐增大的莲蓬状,所述的莲蓬分流器(37)的梢部端面朝向所述的缓冲球室(3)的内部,并且该梢部端面上规则开设有多个气孔。

2.根据权利要求1所述的具有气体缓冲均匀功能的离子源,其特征在于:所述的电弧腔(12)的电弧腔侧板(13)的内表面在垂直于电弧腔侧板(13)的延伸方向的平面上的投影为弧形。

3.根据权利要求2所述的具有气体缓冲均匀功能的离子源,其特征在于:所述的电弧腔侧板(13)上开设有多个气体导入孔(14),所述的气体导入孔(14)为沿着所述的电弧腔侧板(13)的延伸方向均匀开设的两排。

4.根据权利要求1所述的具有气体缓冲均匀功能的离子源,其特征在于:所述的缓冲球室(3)的内部还设置有栅板缓流层(35),所述的栅板缓流层(35)包括多层栅板,每层栅板上均开设有能够使得栅板缓流层(35)中的气流按照螺旋线方向流动的气孔(37)。

5.根据权利要求4所述的具有气体缓冲均匀功能的离子源,其特征在于:所述的栅板缓流层(35)包括相平行设置的第一栅板(31)、第二栅板(32)、第三栅板(33)、第四栅板(34),其中第一栅板(31)及第三栅板(33)上的气孔的轴心线方向相平行,第二栅板(32)及第四栅板(34)上的气孔的轴心线方向相平行并且与第一栅板(31)上的气孔的轴心线方向不相平行。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于和舰科技(苏州)有限公司,未经和舰科技(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810155402.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top