[发明专利]具有气体缓冲均匀功能的离子源有效
申请号: | 200810155402.3 | 申请日: | 2008-09-28 |
公开(公告)号: | CN101685753A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 谢立 | 申请(专利权)人: | 和舰科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 孙仿卫 |
地址: | 215021江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 气体 缓冲 均匀 功能 离子源 | ||
1.一种具有气体缓冲均匀功能的离子源,包括气源、电弧室(1)、用于连接所述的气源及电弧室的导管(2),所述的电弧室(1)包括设置有灯丝的用于将气体电离的电弧腔(12),其特征在于:所述的电弧室的气体入口处的内部设置有气体容腔(11),所述的气体容腔(11)的进气口与所述的导管(2)连通、所述的气体容腔(11)的出气口与所述的电弧室(1)连通;
所述的导管(2)上还设置有缓冲球室(3),所述的缓冲球室(3)包括进气端和出气端,所述的进气端及出气端的至少一个上设置有莲蓬分流器(37),所述的莲蓬分流器(37)呈自根部向梢部直径逐渐增大的莲蓬状,所述的莲蓬分流器(37)的梢部端面朝向所述的缓冲球室(3)的内部,并且该梢部端面上规则开设有多个气孔。
2.根据权利要求1所述的具有气体缓冲均匀功能的离子源,其特征在于:所述的电弧腔(12)的电弧腔侧板(13)的内表面在垂直于电弧腔侧板(13)的延伸方向的平面上的投影为弧形。
3.根据权利要求2所述的具有气体缓冲均匀功能的离子源,其特征在于:所述的电弧腔侧板(13)上开设有多个气体导入孔(14),所述的气体导入孔(14)为沿着所述的电弧腔侧板(13)的延伸方向均匀开设的两排。
4.根据权利要求1所述的具有气体缓冲均匀功能的离子源,其特征在于:所述的缓冲球室(3)的内部还设置有栅板缓流层(35),所述的栅板缓流层(35)包括多层栅板,每层栅板上均开设有能够使得栅板缓流层(35)中的气流按照螺旋线方向流动的气孔(37)。
5.根据权利要求4所述的具有气体缓冲均匀功能的离子源,其特征在于:所述的栅板缓流层(35)包括相平行设置的第一栅板(31)、第二栅板(32)、第三栅板(33)、第四栅板(34),其中第一栅板(31)及第三栅板(33)上的气孔的轴心线方向相平行,第二栅板(32)及第四栅板(34)上的气孔的轴心线方向相平行并且与第一栅板(31)上的气孔的轴心线方向不相平行。
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