[发明专利]一种基于参考光栅单次曝光的大面积全息光栅制备方法

权利要求书

1.一种基于参考光栅单次曝光的大面积全息光栅制备方法，在涂有感光材料的主全息干板上制备衍射光栅，其特征在于，制备过程包括下列步骤：

(1)将一涂有感光材料的参考全息干板固定在主全息干板待拼接的两个部分之间；

(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场对参考全息干板进行曝光，显影获得衍射光栅条纹，制成参考光栅；

(3)将主全息干板的第一部分和参考光栅放置于记录光场中，使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；

(4)取消主全息干板第一部分的遮挡，对主全息干板的第一部分曝光、显影；

(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，使参考光栅和主全息干板的第二部分位于记录光场区内，观察参考光栅与记录光场形成的莫尔条纹，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；

(6)取消主全息干板第二部分的遮挡，对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作；

所述步骤(5)中，调节参考光栅和记录光场的相对位置包括，对固定参考光栅和主全息干板的记录支架的位置和角度进行调节；以及对形成记录光场的两路光束中的一路的反射镜进行位置调节以改变位相；

所述对形成记录光场的两路光束中的一路的反射镜进行位置调节是指，扩束前的一个反射镜设置在微位移器件上，通过微位移器件改变反射镜的位置，以改变光程，并实现对记录光场条纹位相的改变。