[发明专利]一种多室真空镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种适合于工件大批量生产的真空镀膜系统，特别是一种多室真空镀膜装置。

背景技术

在目前应用于管状、片状及柱状等小件物品镀膜的真空装置，多为一个镀膜室配一套真空获得系统而组成的单机真空镀膜设备。在生产过程中，一个工作周期主要包括装工件、抽真空、镀膜、充大气、卸工件等五个步骤。由此看出，在每一个工作周期中，都要对镀膜室抽一次真空、充一次空气，这种周期式的镀膜方式，对能源浪费的同时生产效率也大大降低且工艺控制难度增加。真空状态下制备的膜层，一般对镀膜的本底真空度要求较高，通常在10^-3Pa数量级以上。一台单机设备从大气抽到10^-3Pa数量级的真空状态，需要耗费十几甚至几十分钟，占整个工作周期的一半，甚至还要多。而真空获得系统的耗电量在整台镀膜设备总的耗电量中，占相当大的比例。所以抽真空的时间越长，设备的工作周期就越长，能耗就越大、效率就越低、工件的单位成本就越高。镀膜室反复地经常暴露大气，对镀膜环境造成了不同程度的污染，使工艺运行的重复性变差、稳定性降低，质量控制增加了难度。

现有技术中，ZL200520130173.1的中国专利，它公开了一种多个镀膜仓共用一个移动式切换仓的真空镀膜系统，移动式切换仓需要分别与各个镀膜仓对接。对接后工件架需要从镀膜室的顶部取出，然后与切换仓内的工件架进行互换。其不足之处在于：首先是切换仓与镀膜仓上下叠加，高度最少超过6米，操作不方便，占用空间。而且切换仓内要能容下两副工件架，其体积庞大，增加了抽真空的负担和能耗。工件架在镀膜室内上升以及在切换仓进行互换不容易实现。

发明内容

本发明要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提出了一种能耗低、效率高、提高了膜层质量而且容易实现的多室真空镀膜装置。

本发明要解决的技术问题是通过以下技术方案来实现的，一种多室真空镀膜装置，其特点是：包括镀膜室、真空预备室和工件架车，

真空预备室的端部至少连接有一个镀膜室，在每个镀膜室内都设有环形轨道，用于工件架车在镀膜室内旋转进行镀膜作业；

在真空预备室内并排设有两条工件架车转运轨道，两条工件架车转运轨道的端部通过轨道切换机构分别与每一个镀膜室内的环形轨道对接；

真空预备室与每个镀膜室之间都设有真空锁和门阀，真空预备室和每个镀膜室都与抽真空系统相连接，实现真空预备室与每个镀膜室之间在真空状态下进行工件架车的传输。

本发明要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来进一步实现，在真空预备室的边侧部设有工件装卸台，工件装卸台设有“U”形传输轨道，“U”形传输轨道的两端与真空预备室内两条工件架车转运轨道横向相交，在相交处设有变轨装置和轨道槽，真空预备室与工件装卸台之间设有真空锁和门阀。

本发明要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来进一步实现，所述的镀膜室对称的设置在真空预备室的左右两端。

本发明主要涉及到的是镀膜室、真空预备室、工件装卸台的组合的结构形式及工作的流程控制方式，借助中间的真空预备室，可实现单机节拍式真空镀膜。在生产过程中镀膜室不暴露大气，预备真空室的抽真空过程和两端镀膜室的镀膜过程可同时进行，镀膜工艺的运行周期即为工件生产的工作周期。本发明解决了目前单机镀膜设备，所存在的镀膜室频繁暴露大气、抽真空时间长等影响效率和质量的问题。

与现有技术相比，本发明具有以下几项有益的效果：①缩短了生产周期，提高了生产效率，降低了能源消耗；②镀膜室杜绝了大气污染，提高了膜层质量；③结构简单，操作方便，占地面积小，易于大规模的推广使用。

附图说明

图1为本发明设有两个镀膜室的结构示意图。

图2为真空预备室两端连接四个镀膜室的结构示意图。

具体实施方式

一种多室真空镀膜装置，包括镀膜室2、真空预备室1和工件架车9，真空预备室1的端部至少连接有一个镀膜室2，在每个镀膜室2内都设有环形轨道4，用于工件架车9在镀膜室2内旋转进行镀膜作业；在真空预备室内1并排设有两条工件架车转运轨道3，两条工件架车转运轨道的端部通过轨道切换机构分别与每一个镀膜室内的环形轨道4对接；真空预备室1与每个镀膜室2之间都设有真空锁5，真空预备室1和每个镀膜室都与抽真空系统10相连接，实现真空预备室1与每个镀膜室之间在真空状态下进行工件架车9的传输。