[发明专利]光学薄膜及其制造方法无效
申请号: | 200810160821.6 | 申请日: | 2008-09-16 |
公开(公告)号: | CN101393295A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 市川幸司;宫崎胜旭 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B1/04;C08F22/20;C08J5/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊玉兰;孙秀武 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学薄膜 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及光学薄膜及其制造方法。
背景技术
专利文献1中公开了一种拉伸热塑性树脂得到的相位差板,所述热 塑性树脂含具有正折射率各向异性的单体和具有负各向异性的单体。但 作为所述的热塑性树脂,具体只公开了光气和双酚构成的聚碳酸酯,由 于使用了光气,所以该碳酸酯的工业生产未必容易。而且作为用于该碳 酸酯的具有负折射率各向异性的单体,只不过公开了是9-芴和苯酚的 脱水缩合物的下述[F]和[G]:
[专利文献1]国际公开第99/06057号小册子。
发明内容
本发明人等就上述课题进行了研究,结果发现了一种光学薄膜,其 无需使用光气即可制造,并且可在宽的波长区域进行同样的偏振变换。
本发明是一种光学薄膜,其是使组合物成膜再拉伸形成的,所述组 合物包含分子内具有2个以上选自丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至少1 种基团并具有式(A)所示基团的化合物。
(式(A)中,B1和B2分别独立地表示羟基、C1~6的烷基、C1~6的烷氧 基或环氧丙氧基。X表示2价的烃基、硫醚基、磺酰基、醚键或单键, 该烃基也可含-CO-O-。a1和a2分别独立地表示0~4的整数。)
此外,本发明是上述光学薄膜,其是使组合物成膜并光聚合,然后 再拉伸形成的,所述组合物含有分子内具有2个以上选自丙烯酰基和甲 基丙烯酰基中的至少1种基团并具有式(A)所示基团的化合物。
此外,本发明是上述光学薄膜,其中,所述分子内具有2个以上选 自丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至少1种基团并具有式(A)所示基团 的化合物是:分子内具有2个以上选自丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至 少1种基团,并具有式(A-1)、式(A-2)或式(A-3)所示基团 的化合物。
(式(A-1)~式(A-3)中,B1、B2、a1和a2表示和上述相同的含 义。)
此外,本发明是上述光学薄膜,其中,所述分子内具有2个以上选 自丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至少1种基团,具有式(A)所示基团 的化合物是式(A-4)所示的化合物。
(式(A-4)中,R15和R16分别独立地表示氢原子或甲基,X7和X8分 别独立地表示C2~6的亚烷基。该亚烷基也可含C1~6的烷基、羟基或羰 基。v4和w4分别独立地表示0~6的整数。X表示和上述相同的含义。)
此外,本发明是上述光学薄膜,其中,组合物为还含有选自式(I)~ 式(III)所示单体中的至少1种单体(1)的组合物。
(式(I)中,R1表示氢原子或甲基,R2表示5~20元环的芳香族烃基 或芳香族杂环基。该芳香族烃基或芳香族杂环基也可含羟基、C1~12的烷 基、C1~12的烷氧基、C6~12的芳基、C7~12的芳烷基、环氧丙氧基、C2~4的酰基、羧基或卤原子。)
(式(II)中,R3表示氢原子或甲基,R4和R5分别独立地表示氢原子、 C1~6的烷基或R4和R5连接形成的C4~6的亚烷基。该烷基和该亚烷基也 可含羟基、氧原子、硫原子或氮原子。R6表示单键或C2~6的氧亚烷基。)
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