[发明专利]有机/无机杂化纳米级多孔防反射涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层，其特征在于：以聚(甲基丙烯酸甲酯-b-甲基丙烯酰氧丙基三乙基硅烷)为前驱体通过溶胶-凝胶过程得到有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层或以聚(甲基丙烯酸甲酯-b-甲基丙烯酰氧丙基三乙基硅烷)与正硅酸乙酯的混合物为前驱体通过溶胶-凝胶过程得到有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层，有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层的厚度为42.5～162.8nm，孔隙率为23.2％～56.9％，孔径为5～10nm；所述的聚(甲基丙烯酸甲酯-b-甲基丙烯酰氧丙基三乙基硅烷)中的甲基丙烯酸甲酯链段的数均分子量为7000～15000，聚(甲基丙烯酸甲酯-b-甲基丙烯酰氧丙基三乙基硅烷)中的甲基丙烯酰氧丙基三乙基硅烷链段的数均分子量为6000～40000；具体制备方法包括如下步骤：

1)在重量百分比浓度为2％～10％的聚(甲基丙烯酸甲酯-b-甲基丙烯酰氧丙基三乙基硅烷)溶液中，加入重量百分比浓度为0.5％～10％的正硅酸乙酯，均匀混合，得到混合液，用匀胶机将混合液在基底表面旋涂成厚度为80～160nm有机/无机杂化纳米涂层；

2)将有机/无机杂化纳米涂层置于有机溶剂的饱和气氛中，有机溶剂退火1～7天，然后置于真空烘箱中50～120℃下退火1～5天，退火结束，用冰块迅速冷却；接着置于氨水的气氛中1～5天，放入真空烘箱中干燥；再置于紫外灯下照射，制备得到有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层。

2.一种根据权利要求1所述有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

1)在重量百分比浓度为2％～10％的聚(甲基丙烯酸甲酯-b-甲基丙烯酰氧丙基三乙基硅烷)溶液中，加入重量百分比浓度为0.5％～10％的正硅酸乙酯，均匀混合，得到混合液，用匀胶机将混合液在基底表面旋涂成厚度为80～160nm有机/无机杂化纳米涂层；

2)将有机/无机杂化纳米涂层置于有机溶剂的饱和气氛中，有机溶剂退火1～7天，然后置于真空烘箱中50～120℃下退火1～5天，退火结束，用冰块迅速冷却；接着置于氨水的气氛中1～5天，放入真空烘箱中干燥；再置于紫外灯下照射，制备得到有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层。

3.根据权利要求2所述的一种有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层的制备方法，其特征在于：所述的有机溶剂为：四氢呋喃、甲苯、乙苯、异丙苯、对二甲苯、邻二甲苯、二氯甲烷或二氧杂环己烷。

4.根据权利要求2所述的一种有机/无机杂化纳米多孔防反射涂层的制备方法，其特征在于：所述的紫外灯的发出波长小于400nm。