[发明专利]光诱导防污防雾自清洁的树脂镜片及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810163258.8 申请日: 2008-12-09
公开(公告)号: CN101441330A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 厉以宇;苏晓东;陈浩;瞿佳;王勤美 申请(专利权)人: 温州医学院眼视光研究院
主分类号: G02C7/02 分类号: G02C7/02;G02B1/10;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 325027浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 光诱导 防污 清洁 树脂 镜片 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光诱导防污防雾自清洁的树脂镜片,包括有树脂镜片基片,形成于所述树脂镜片基片上的硬膜层,以及覆盖于所述硬膜层上的减反膜,其特征在于:所述的减反膜由至少五层的薄膜组成,其中最外层的薄膜为TiO2-x-yCxNy薄膜,其它层薄膜为TiO2-xCx薄膜与SiO2薄膜交叠设置,且贴近硬膜层的第一层为TiO2-xCx薄膜。

2.根据权利要求1所述的光诱导防污防雾自清洁的树脂镜片,其特征在于:所述的减反膜为五层薄膜,其总厚度为170nm-180nm。

3.根据权利要求1所述的树脂镜片的制备方法,其步骤为:

(1)加硬前树脂镜片基片预处理:将树脂镜片基片放入清洗剂中清洗,然后脱水收干;

(2)树脂镜片基片加硬处理:将树脂镜片基片放入加硬液浸渍;

(3)镀膜前树脂镜片预处理:将加硬过的树脂镜片用洗涤液进行清洗,然后烘干,再固定在镀膜机的工件架上;

(4)磁控溅射制膜:调整好镀膜机的真空系统参考,采用反应磁控溅射技术,分别溅射硅靶和钛靶并与气体反应,在基片上得到TiO2-xCx薄膜和SiO2薄膜,并确保最外层的薄膜为TiO2-xCx

(5)阴极磁控等离子体处理实现氮掺杂:利用等离子体发生器使氮气电离,在负偏压作用下氮离子轰击最外层薄膜而获得TiO2-x-yCxNy薄膜。

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