[发明专利]用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置有效
申请号: | 200810164178.4 | 申请日: | 2008-12-29 |
公开(公告)号: | CN101452219A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | 杨华勇;陈文昱;巴静;傅新;李小平 | 申请(专利权)人: | 浙江大学;上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 林怀禹 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光刻 浸没 液体 供给 回收 控制 装置 | ||
1.一种用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置,是在投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的液体供给及回收控制装置(2);其特征在于:所述的液体供给及回收控制装置(2)包括注液盖(2A)、注液盘(2B)、流动控制环(2C)和挡圈(2D);其中:
1)注液盖(2A):由中心向外开有偏置的回收腔对外连接通道(6B)、两个对称分布的注液腔对外连接通道(6A);
2)注液盘(2B):由中心向外开偏置的物镜孔(4D)、偏置的回收腔(4C)和沿圆周方向均匀排列成环形的四个注液腔(4A),四个注液腔(4A)向上与注液腔对外连接通道(6A)相通;回收腔(4C)向上与回收腔对外连接通道(6B)相通;注液孔阵列(4B)沿注液腔(4A)所在的圆周方向垂直向上排列;
3)流动控制环(2C):在环状圆周面上开有柱状斜流槽阵列(5),向上分别与注液孔阵列(4B)相通;
4)挡圈(2D):环状结构,内径和外径与流动控制环(2C)相同;
所述的注液盘(2B)、流动控制环(2C)、挡圈(2D),三部分构件之间为平面结合;
注液过程中,外部注液管路中的液体依次流经:注液腔对外连接通道(6A)、注液腔(4A)、注液孔阵列(4B)和斜流槽阵列(5),并以斜流槽阵列(5)的指向为初速度方向,以射流形式进入缝隙流场(7),最终在负压的作用下进入回收腔(4C)实施回收,液体以定量方式沿斜流槽阵列(5)高速射入缝隙流场(7),通过协调控制注液腔(4A)流量和回收腔(4C)的负压值,达到注液及回收二者的平衡。
2.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置,其特征在于:所述的回收腔(4C)的直径为3/16~5/16倍注液盘(2B)的直径。
3.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置,其特征在于:所述的注液孔阵列(4B)和斜流槽阵列(5)沿圆周方向离回收腔(4C)中心距离越大,分布密度减小。
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