[发明专利]抛光设备无效
申请号: | 200810165796.0 | 申请日: | 2005-10-31 |
公开(公告)号: | CN101585164A | 公开(公告)日: | 2009-11-25 |
发明(设计)人: | 锅谷治;户川哲二;福岛诚;安田穗积 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;H01L21/304;B24B49/02;B24B53/12;B24B41/047 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王 琼 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛光 设备 | ||
1.一种抛光设备,包括:
抛光表面;
用于夹持衬底的顶环;
用于向所述抛光表面供给抛光液的抛光液供给喷嘴;
用于朝向所述抛光表面射出气体从而从所述抛光表面的测量部分移走抛光液的喷嘴;和
用于检测测量部分处的所述抛光表面的位置的距离测量传感器。
2.一种抛光设备,包括:
抛光表面;和
用于夹持衬底的顶环,所述顶环具有用于夹持衬底的周边部分的卡环,
其中所述卡环包括:
具有在其中形成的压力室的滚动隔膜,
用于向压力室供给流体从而使所述滚动隔膜沿垂直方向膨胀或者收缩的通道,和
根据所述滚动隔膜沿垂直方向可移动的环形构件,所述环形构件与所述抛光表面接触。
3.如权利要求2所述的抛光设备,其特征在于,所述卡环还包括:
其中容纳有所述滚动隔膜的气缸,
设计成将所述滚动隔膜夹持在所述气缸上的夹持器,和
在气缸内部沿垂直方向可移动的活塞,所述活塞连接至所述滚动隔膜。
4.一种抛光设备,包括:
抛光表面;
用于夹持衬底的顶环;和
沿垂直方向可移动的顶环轴,所述顶环连接至所述顶环轴,
其中所述顶环包括:
连接至所述顶环轴的上部构件,
与衬底的至少一部分接触的弹性隔膜,
连接到所述弹性隔膜的下部构件,和
设计成将所述下部构件可拆卸地固定至所述上部构件的紧固件。
5.如权利要求4所述的抛光设备,其特征在于,所述顶环还包括:
设计成将所述弹性隔膜夹持在所述下部构件上的夹持器,所述夹持器具有钩,以及
止动器,具有与所述夹持器的钩接合的接合部分。
6.如权利要求5所述的抛光设备,其特征在于,所述止动器为圆柱形,
其中所述接合部分部分沿止动器的圆周方向形成。
7.如权利要求6所述的抛光设备,其特征在于,所述接合部分沿着所述止动器的圆周方向逐渐加厚。
8.如权利要求4所述的抛光设备,其特征在于,所述顶环还包括:
用于夹持衬底的周边部分的卡环,
设计成防止抛光液进入所述卡环与所述上部构件和所述下部构件的至少之一之间的密封构件。
9.一种抛光设备,包括:
具有抛光表面的抛光垫;
设计成朝向所述抛光表面挤压衬底的顶环主体;
设计成挤压所述抛光表面的卡环,所述卡环设置在所述顶环主体的周边部分处;
用于修整所述抛光表面的修整器;
用于检测所述抛光设备中的至少一个部件的磨损的磨损检测器;和
算术单元,可操作地基于所述磨损检测器的信号计算所述至少一个部件的磨损量,并且基于抛光处理或者多组抛光处理的磨损量确定抛光是否正常进行。
10.如权利要求9所述的抛光设备,其特征在于,所述算术单元可操作地基于抛光处理或者多组抛光处理的磨损量与预定阈值的比较来检测抛光是否异常。
11.如权利要求9所述的抛光设备,其特征在于,所述算术单元可操作地确定所述至少一个部件的总磨损量是否达到预定值。
12.如权利要求9所述的抛光设备,其特征在于,所述磨损检测器包括用于检测所述卡环的磨损的卡环磨损检测器。
13.如权利要求12所述的抛光设备,其特征在于,还包括可操作地从所述顶环主体接收衬底并且向所述顶环主体传送衬底的推动器,以及所述卡环磨损检测器设置在所述推动器中。
14.如权利要求13所述的抛光设备,其特征在于,所述推动器包括:
与所述卡环的下表面接触的卡环导向装置,和
可操作地将衬底推到所述顶环主体的下表面上的推动台,
其中所述卡环磨损检测器可操作地测量在所述卡环导向装置和所述推动台之间的距离。
15.如权利要求12所述的抛光设备,其特征在于,所述顶环主体挤压衬底的挤压力根据所述卡环的磨损量而改变。
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