[发明专利]电子束曝光系统有效
申请号: | 200810166457.4 | 申请日: | 2003-10-30 |
公开(公告)号: | CN101414534A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | 马尔科·扬-哈科·威兰;波特·扬·卡姆弗彼科;亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩;彼得·克瑞特 | 申请(专利权)人: | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 赵 科 |
地址: | 荷兰代*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子束 曝光 系统 | ||
1.一种用于接收多个小射束的聚焦电子光学系统,包括:
用于聚焦多个小射束中的每一个的第一静电透镜阵列;
包括用于调制所述小射束的强度的多个调制器的调制阵列;
包括用于在一个方向上偏转一部分所述小射束的多个静电扫描偏 转器的扫描偏转阵列;和
用于聚焦偏转后的小射束的第二静电透镜阵列。
2.如权利要求1的系统,其中所述系统包括用于将电子束分离为 多个小射束的射束分离器。
3.如权利要求2的系统,其中所述射束分离器包括孔阵列,所述 孔阵列具有直径在5μm到150μm的范围内、并且间距为50到500μm 的孔。
4.如权利要求2的系统,其中所述射束分离器包括具有5000到 30000个孔的孔阵列。
5.如权利要求2的系统,其中所述射束分离器包括具有尺寸被调 节以补偿所述电子束的不均匀电流密度的孔的孔阵列。
6.如权利要求5的系统,其中每个孔具有与基于要通过所述孔传 输的相应小射束的电流密度成反比的面积。
7.如权利要求2的系统,其中所述射束分离器包括沿着所述电子 束或多个小射束的路径连续顺序布置的多个孔阵列,所述孔阵列具有 互相对齐的孔,沿所述路径朝向第一静电透镜阵列的每下一个孔阵列 都具有小于前一孔阵列中的孔的孔。
8.如权利要求2的系统,其中所述射束分离器包括具有布置为六 边形图案的孔的孔阵列。
9.如权利要求1的系统,其中所述第一静电透镜阵列被布置为将 所述多个小射束中各个小射束聚焦到从0.1到1μm的范围内的直径。
10.如权利要求9的系统,其中所述第一静电透镜阵列包括两个带 有洞的对准板。
11.如权利要求10的系统,其中所述板的厚度在从10到500μm 的范围内。
12.如权利要求10的系统,其中所述洞具有从50到200μm的范 围内的直径,以及从50到500μm的范围内的间距。
13.如权利要求10的系统,其中所述第一静电透镜阵列还包括用 于支撑所述板的绝缘体。
14.如权利要求1的系统,其中所述调制阵列包括:
配备有所述调制器的小射束消隐器孔阵列,所述调制器是用于在 另一预定方向上偏转小射束的消隐静电偏转器,其中所述消隐静电偏 转器包括多个电极;
小射束停止阵列,用于终止由所述小射束消隐器阵列的消隐静电 偏转器所偏转的小射束。
15.如权利要求14的系统,其中第一静电透镜阵列被布置为将所 述多个小射束中各个小射束在所述小射束消隐器阵列处聚焦为从0.1 到5μm的范围内的直径。
16.如权利要求15的系统,其中所述小射束消隐器阵列位于所述 多个小射束的静电焦平面中。
17.如权利要求16的系统,其中所述小射束停止阵列被定位在所 述多个小射束的焦平面之外。
18.如权利要求14的系统,其中每个消隐静电偏转器包括接地的 第一电极和连接到用于接收控制数据的电路的第二电极。
19.如权利要求1的系统,其中所述第二静电透镜阵列包括两个或 多个板,其中每个板具有在从10到500μm的范围内的厚度。
20.如权利要求1的系统,其中所述第二静电透镜阵列包括两个或 多个板,其中相邻板之间的距离在从50到800μm的范围内。
21.如权利要求1的系统,用于在将图案转移到目标表面上的、 使用电子束的平版印刷系统中的用途。
22.如权利要求21的系统,包括:
用于产生电子束的电子束发生器;和
目标固定器,用于固定配备有用于接收要转移的图案的表面的目 标。
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