[发明专利]光学薄膜的形成方法以及具有该薄膜的光学元件

权利要求书

1、一种形成光学薄膜的方法，该方法包括如下步骤：在光学构件的表面上形成主要由无机金属氧化物组成的精细结构层，然后通过液相沉积法形成无机硬层。

2、根据权利要求1所述形成光学薄膜的方法，其中所述精细结构层通过溶胶-凝胶法形成。

3、根据权利要求1或2所述形成光学薄膜的方法，其中所述精细结构层为多孔层或者具有精细粗糙度的层。

4、根据权利要求1至3中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中所述精细结构层主要由氧化硅或氧化铝组成。

5、根据权利要求1至4中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中在150℃或更低温度下对所形成的精细结构层进行燃烧。

6、根据权利要求1至5中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中所述精细结构层的物理厚度为15至500纳米。

7、根据权利要求1至6中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中所述无机硬层主要由氧化硅组成。

8、根据权利要求1至7中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中在所述液相沉积法中将金属氟化物的配合物用作沉积反应材料。

9、根据权利要求8所述形成光学薄膜的方法，其中所述金属氟化物的配合物包括硅氟化铵和/或氟化锆铵。

10、根据权利要求1至9中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中所述液相沉积法使用碱性催化剂。

11、根据权利要求10所述形成光学薄膜的方法，其中所述碱性催化剂为氨水。

12、根据权利要求1至11中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中所述光学薄膜为减反射薄膜。

13、根据权利要求1至12中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中所述光学薄膜在光拾取装置的物镜透镜、眼用透镜、内镜的光学透镜或者成像装置的光学透镜上形成。

14、根据权利要求1至13中任一项所述形成光学薄膜的方法，其中所述光学构件由树脂制得。

15、一种光学元件，其上具有根据权利要求1至14中任一项所述方法所形成的光学薄膜。