[发明专利]C0G多层陶瓷电容器有效
申请号: | 200810167339.5 | 申请日: | 2008-10-22 |
公开(公告)号: | CN101456731A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
发明(设计)人: | 迈克尔·S·兰德尔;科里·安东尼亚德斯;丹尼尔·E·巴伯;X·徐;詹姆斯·比森;包斯卡·潘瑟卢;阿比吉特·古拉夫;汤姆·普尔;阿齐祖丁·塔杰丁;伊恩·伯恩 | 申请(专利权)人: | 凯米特电子公司 |
主分类号: | C04B35/49 | 分类号: | C04B35/49;H01G4/12;H01G4/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈 源;张天舒 |
地址: | 美国南*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | c0g 多层 陶瓷 电容器 | ||
1.一种多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成物,包括化学式为 {[(CaO)t(SrO)1-t]m[(ZrO2)v(TiO2)1-v]}1-s-xAsEx的合成物,其中:
A是选自Cu、Mn、Mo、W、Ta、Sc、Y、Hf、Nb及其组合中 的过渡金属的过渡金属氧化物;
E是从包括Ge、Si、Ga及其组合的组中选出的元素的氧化物;
m取0.98至1.02;
t取t>0.5且≤0.9;
v取0.8至1.0;
s和x从包括a)x≤0.08,0.0001≤s≤0.043并且x>1.86s;和b)0 <x≤0.0533,0.0001≤s≤0.08并且x<0.667s的组中选择。
2.如权利要求1所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中s和x被限定为x≤0.08,0.0001≤s≤0.043和x>1.86s,并 且所述合成物具有超过4.5μm的层厚。
3.如权利要求1所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中s和x被限定为0<x≤0.0533,0.0001≤s≤0.08和x<0.667s, 并且所述合成物具有不超过4.5μm的层厚。
4.如权利要求1所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中A是氧化锰。
5.如权利要求1所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中A是MnO,E是SiO2。
6.如权利要求1所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中所述电介质陶瓷合成物在1200℃和1350℃之间的温度下进 行烧制。
7.如权利要求1所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中所述电容器还包括贱金属作为内部电极材料。
8.如权利要求5所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中所述电容器还包括贱金属作为内部电极材料。
9.如权利要求8所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中从包括Ni或Cu及其组合的组中选择贱金属。
10.如权利要求9所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,其中所述电介质陶瓷合成物在还原性气氛中进行烧制。
11.如权利要求10所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,还包括从Ni和Cu组成的组中选择的金属电极。
12.如权利要求1所述的多层陶瓷电容器中的电介质陶瓷合成 物,还具有≥-30ppm/℃且≤+30ppm/℃的电容温度系数。
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