[发明专利]两面曝光装置无效
| 申请号： | 200810168024.2 | 申请日： | 2008-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN101403863A | 公开（公告）日： | 2009-04-08 |
| 发明（设计）人： | 浅见正利 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00;H05K3/00;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈 坚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 两面 曝光 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种两面曝光装置，其特征在于，该两面曝光装置包括：
一个光源；
分光体，其将上述光源的光的一半反射，使另一半透射；
第一准直镜，其使上述分光体所反射的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；
第二准直镜，其使透过了上述分光体的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；
第一光源光闸，其设置在上述分光体与第一准直镜之间，用于调节来自分光体的光量；以及
第二光源光闸，其设置在上述分光体与第二准直镜之间，用于调节来自分光体的光量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社阿迪泰克工程，未经株式会社阿迪泰克工程许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810168024.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
