[发明专利]抛光监视方法和抛光设备

权利要求书

1.一种利用涡电流传感器监视与抛光垫的抛光面滑动接触的基片 上的导电膜的厚度变化的方法，所述方法包括：

在基片的水抛光过程中，在抛光垫的修整过程中，或在抛光垫的 更换过程中，获取涡电流传感器的输出信号，作为修正信号值；

从修正信号值与预定的修正基准值之间的差值计算出修正量；

当抛光具有导电膜的基片时，通过从涡电流传感器的输出信号减 去修正量而计算出实测信号值；以及

通过监视实测信号值的变化而监视抛光过程中导电膜的厚度变 化；

其中：

涡电流传感器的输出信号包括：包含涡电流传感器线圈的电路的 阻抗的电阻分量和感抗分量；

所述电阻分量和感抗分量由坐标系中的坐标限定；以及

在坐标系中所述坐标被转动和移动，以使得坐标系原点与由坐标 限定的点之间的距离随着导电膜厚度的减小而减小。

2.一种用于抛光基片的设备，包括：

抛光垫，其具有抛光面；

涡电流传感器；

项环，其被构造成将基片推压在所述抛光面上；

修整器，其被构造成修整所述抛光面；

被构造成在基片和所述抛光垫之间提供相对运动的机构；以及

监视单元，其被构造成利用所述涡电流传感器监视与所述抛光面 滑动接触的基片上的导电膜的厚度变化；

其中，所述监视单元可操作，以便：

在基片的水抛光过程中，在所述抛光垫的修整过程中，或在更换 所述抛光垫的过程中，获取所述涡电流传感器的输出信号，作为修正 信号值；

从修正信号值与预定的修正基准值之间的差值计算出修正量；

当抛光具有导电膜的基片时，通过从涡电流传感器的输出信号减 去修正量而计算出实测信号值；以及

通过监视实测信号值的变化而监视抛光过程中导电膜的厚度变 化；

其中，所述涡电流传感器的输出信号包括：包含涡电流传感器线 圈的电路的阻抗的电阻分量和感抗分量；

所述电阻分量和感抗分量由坐标系中的坐标限定；以及

在坐标系中所述坐标被转动和移动，以使得坐标系原点与由坐标 限定的点之间的距离随着导电膜厚度的减小而减小。

3.根据权利要求2的设备，其中，修正基准值包括在与修正信号 值的获取条件相同的条件下预先获得的涡电流传感器的输出信号。