[发明专利]紫外线照射处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种紫外线照射处理装置。尤其是涉及使用准分子灯 的紫外线照射处理装置，该紫外线照射处理装置在半导体基板或液晶 基板等的制造工序中用于半导体基板或液晶基板的清洁等。

背景技术

在最近的半导体基板或液晶基板等的制造工序中，作为除去在半 导体基板即硅晶片或液晶基板即玻璃基板表面附着的有机化合物等污 垢的方法，广泛利用使用紫外光的干式清洁方法。尤其是，在使用从 准分子灯放射的真空紫外光的利用臭氧、活性氧的清洁方法中，提出 了各种更有效地以短时间清洁的清洁装置，例如公知有专利文献1(日 本专利特开2000-260396号)。

在专利文献1的紫外线照射处理装置中，使用准分子灯向与准分 子光照射面分离数mm左右而配置的处理体照射紫外线，上述准分子 灯在剖面为四边形的薄箱状放电容器的照射面上配置网状的外部电 极，在其相反侧的表面上配置固定电极(据付電極)，而且将上述照 射面上的外部电极即处理体一侧的电极接地，将相反面上的固定电极 连接到供电装置的高压侧。

专利文献1：日本专利特开2000-260396号

但是，近年来因液晶面板等处理体逐渐大型化，因此需要形成全 长度长的放电容器，以便能够对大型处理体均匀地照射紫外线。然而， 如专利文献1所示，在形成角部呈直角的剖面为四边形的放电容器时， 放电容器的全长度越长，制造上存在各种障碍，事实上无法实现。

例如，在形成角部呈直角的剖面为四边形的放电容器时，只能利 用预定的方法例如使用燃烧器的焊着或粘结剂的粘结等方法来粘贴4 张长方形的板玻璃。但是，在全长度长的板玻璃的整个长边接触燃烧 器的火焰，为非常烦杂且需要工夫的要求熟练的作业，并且存在由焊 着的热变形引起的破损的问题，现实中无法实现。此外，即使通过由 粘结剂来粘贴板玻璃的方法构成放电容器，也因为粘结剂本身具有容 易使气体穿过的性质，因而产生填充在放电容器内的气体向放电容器 外漏出的不良情况，该方法也不现实。

这样，放电容器的全长度越长，在现实中无法实现通过所谓个体 成型方式形成如专利文献1的角部呈直角的剖面为四边形的放电容器。 因此，该专利文献1的放电容器形状是示意性的记载，实际上在制作 尺寸长的放电容器时，必须使用以往在制造玻璃管时采用的拉挤 (Pultrusion)法等一体成型方式。即，对圆筒形状的玻璃管进行加热， 并且使用模具等进行拉挤而逐渐变形为扁平四边形，由此形成扁平的 四方管，这是可谓唯一的最现实的形成方法。

由于加工上的原因，即为了容易且圆滑地拉挤，在上述拉挤法中 使用的模具在其角部形成有圆弧，所以在被拉挤的扁平四边形玻璃管 (放电容器)的四角部也必然形成一定的圆弧(弯曲部)。

可是，在使用将具备这样在四角具有弯曲部的扁平四边形的放电 容器的准分子灯设置于其中的紫外线照射处理装置，向处理体照射从 准分子灯放射的紫外线来进行处理体表面的清洁时，判断出由于以下 原因而存在根据电极的配置会对处理体带来电气损伤的情况。

在上述紫外线照射处理装置中，为了尽力防止由在从准分子灯到 处理体的空间存在的氧吸收真空紫外线，使氮等的惰性气体在准分子 灯与处理体之间的空间流动，从而将氧减少至限定量，并且将从准分 子光照射面到处理体的距离设定得较短，在数mm以内。

在上述紫外线照射处理装置中，若通过流通氮气使准分子灯的照 射面与处理体之间的空间中氧浓度下降，则在与供电装置的高压侧连 接的高压电极的端部、和与供电装置的接地侧连接且位于处理体一侧 的接地电极的端部之间产生放电。

可是，虽然只要该放电在两电极端间产生则无大碍，但是该放电 会瞬间在高压电极与处理体之间产生。若向处理体发生放电，则在处 理体为例如基板时，引起瞬间流过过电流而损伤在基板表面形成的电 路图案等在处理体表面产生各种损伤的问题。该现象随着准分子灯的 点亮环境变动而产生，为非正常现象。例如，由基板经过引起的周围 氧浓度大幅变化、来自电源系统的供给电压变动等为主要原因。

如下考虑产生上述瞬间性放电的原因。