[发明专利]一种钻井井控参数智能监测系统有效
申请号: | 200810171896.4 | 申请日: | 2008-11-17 |
公开(公告)号: | CN101446191A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 文必用;文华 | 申请(专利权)人: | 文必用;文华 |
主分类号: | E21B44/00 | 分类号: | E21B44/00;E21B21/08;E21B47/00 |
代理公司: | 北京纽乐康知识产权代理事务所 | 代理人: | 田 磊 |
地址: | 100080北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 钻井 参数 智能 监测 系统 | ||
技术领域
本发明涉及石油安全生产监测仪器,特别涉及一种钻井井控参数智能监测系统。
背景技术
在油田石油钻探过程中,由于井下地质复杂,特别是进入水层,油气层时,油水气随钻 井液一起带到地面,可使钻井液密度下降,液柱井压降低,井底压力大于液柱井压,油气大 量上返,造成井涌即井喷重大事故发生,而当井底发生断层或溶洞,钻井液漏失而造成井壁 坍塌,发生卡钻事故。因此,实时监测钻井液在钻井过程中的变化量,及时准确地判断是否 发生井涌或井漏现象是十分重要的。
目前,国内外在监测井涌井漏中有采用超声波液位计计量体积,采用泵冲次计量进口流 量,但由于超声波精度较低、且重复稳性差、误报率较高、泵冲计量流量误差太大,对目前 国家规定的一方报警,二方停钻的指标相差太远。迄今为止,尚未发现具有全方位、高清度 的钻井井控监测仪,特别是钻井井控参数智能监测系统装置。
发明内容
本发明的目的是提供一种钻井井控参数智能监测系统,以克服现有监测井涌井漏仪器精 度较低、重复稳性差、误报率较高、泵冲计量流量误差太大等不足。
实现本发明的技术方案如下:
一种钻井井控参数智能监测系统,包括:
钻井液循环体积监测部分,其包括激光液位计、钻井深度仪、绝对旋转编码器、悬重传 感器、泵压传感器,激光液位计对多个钻井液罐内液位进行测量,从而计算出罐内钻井液体 积,安装在绞车滚筒旁的绝对旋转编码器的信号传至钻井深度仪,由单片机进行数据处理, 计算出游车高度,同时悬重传感器的信号控制钻头位置的变化,从而算出实时的钻头位置和 井深深度,通过这三者的关系,计算出井筒内的钻井液体积,即全程测量,该体积与罐内体 积以及与罐外高压管汇内体积相加算出总体积,以此为标准,与以后每次所采数据相减,多 则为井涌,少则为井漏,如超限则报警;
钻井液进出口流量监测部分,其包括井口高压电磁流量计、出口非满管电磁流量计、泵 压传感器,其中非满管电磁流量计一部分是方管电磁流量计,另一部分是冲板式液位计,方 管电磁流量计在非满管时,其电极结构为条形,此时检测的是流速,此流速是在不同液位高 度时的截面积中流过的瞬时流速,其乘积为体积流量,冲板式液位计在检测时冲板靠自重可 以压住水头,起平衡流速的作用,其精度与满管电磁流量计一样,因此,出口流量减去进口 流量之正负差值可得出井涌、井漏值,泵压传感器在这里为判断正常钻进或起钻或下钻时停 泵而引起的逆流多为2~4方,而容易引起报警,此时超限值另存不作为体积变化,从而排除 误报;
钻井液进口密度、出口密度、钻井温度、出口天燃气、H2S浓度监测部分,钻井液进口 密度、出口密度、钻井温度、出口天燃气、H2S浓度的检测可对井涌井漏现象进行预报,如 果密度值低于设计值,则有可能地下水渗入或气体渗入均可引起密度变低,天燃气及H2S浓 度增加,说明已进入油气层,浓度超过设计值,报警采取措施预防事故发生;
井口井筒动液面及转盘扭矩监测部分,包括井口井筒动液面计、转盘扭矩仪,如果井底 空洞,泥浆漏失或流失,上返不到井筒出口(此时极易发生井壁坍塌,发生卡钻重大事故), 则转盘扭矩增大,从而判断预测及时处理,防止事故发生;
采集仪部分,前四个部分通过485网线送来的信号进入采集仪输入端,所述采集仪分两 种:一种是一般设备通用配套为单片机采集仪,其参数较少,如只配罐液面体积或进出口流 量,另一种如深井等重要大型井深设备,由于参数多,则配置为工业控制计算机,但其功能 都一样,数据送入采集仪后,进行分析比较,判断出井涌、井漏值以及相关超限报警,并通 过显示器进行显示,超限通过高音喇叭报警,同时将所处理好后所有数据,通过数传电台发 送到钻台参数显示器和井队值班室主机;
钻台参数显示器部分,由单片机和高亮大型LED数码管组成,直接放在司钻旁边,其 显示数据均为重要参数,让司钻及时进行事故发生前预警处理,将事故消失在萌芽之前;
主机部分,其收到从采集仪发来的信号接收后进行存储,数据处理,打印,显示,同时 又通过GPRS无线远传到总部指挥中心,他们的通讯方式是双工的,既可发送数据,又可接 收指挥部发来的各种指令,同样,主机也和采集仪一样分通用型和全程型,通用型为单片 机处理器,全程型为工业控制计算机;
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