[发明专利]微粒测量方法、用于测量的基板、以及测量装置有效
| 申请号： | 200810173297.6 | 申请日： | 2008-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101424612A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 古木基裕;今西慎吾;筱田昌孝;铃木明俊;三宅和司 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G01N15/00 | 分类号： | G01N15/00;G01N21/00;G01N33/483 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余 刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微粒 测量方法 用于 测量 以及 装置 | ||
1.一种微粒测量方法，通过用光扫描样品流体通道而对引入到以 预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光 学测量，所述方法包括以下步骤：
用所述光顺序照射与所述样品流体通道一起设置的至少 两个或更多个参考区域；
检测由所述参考区域引起的在所述光中发生的光学特性 的变化；以及
控制所述光对所述样品流体通道的发射时间，
其中，所述控制是基于由所述参考区域之一引起的光学 特性变化的检测时间和由另一个所述参考区域引起的光学特 性变化的检测时间之间的时间差以及样品流体通道的数量。
2.根据权利要求1所述的微粒测量方法，
其中，所述参考区域是用于参考的微粒或/和用于参考的 荧光物质被引入其中的参考流体通道，以及
所述光学特性的变化是由所述用于参考的微粒或/和所述 用于参考的荧光物质引起的。
3.一种微粒测量装置，通过用光扫描样品流体通道而对引入到以 预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光 学测量，所述装置包括：
光照射部，用所述光顺序照射与所述样品流体通道一起 设置的至少两个或更多个参考区域；
光检测部，检测由所述参考区域引起的在所述光中发生 的光学特性的变化；以及
光控制部，基于所述光检测部的输出，控制所述光对所 述样品流体通道的发射时间，
其中，所述参考区域是用于参考的微粒或/和用于参考的 荧光物质被引入其中的参考流体通道，以及
所述光学特性的变化是由所述用于参考的微粒或/和所述 用于参考的荧光物质引起的。
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