[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，其是含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性 发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗 蚀剂组合物，其特征在于，

所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的 产酸剂(B1)，

式中，Q¹是含有酯键的2价连接基团；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可 具有取代基的氟代亚烷基；X为下式(X-4)所示的环式基；A⁺是有机阳 离子，

R²是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～ 6的卤代烷基、卤原子、羟基、-COOR”、-OC(＝O)R”、羟烷基或氰 基；a是0～2的整数；A’是碳原子数为1～5的亚烷基、-O-、-S-、-O-R³- 或-S-R⁴-，R”为氢原子或碳原子数为1～15的直链状、支链状或环状的烷 基，R³和R⁴分别独立地为碳原子数为1～5的亚烷基。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中，所述基材成分(A) 是在酸的作用下对碱显影液的溶解性增加的基材成分。

3.根据权利要求2所述的抗蚀剂组合物，其中，所述基材成分(A) 含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性增加的树脂成分(A1)，该树脂成 分(A1)具有结构单元(a1)，该结构单元(a1)衍生自含有酸解离性溶 解抑制基的丙烯酸酯。

4.根据权利要求3所述的抗蚀剂组合物，其中，所述树脂成分(A1) 还具有结构单元(a2)，该结构单元(a2)衍生自含有含内酯的环式基的 丙烯酸酯。

5.根据权利要求3所述的抗蚀剂组合物，其中，所述树脂成分(A1) 还具有结构单元(a3)，该结构单元(a3)衍生自含有含极性基的脂肪族 烃基的丙烯酸酯。

6.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其含有含氮有机化合物(D)。

7.一种抗蚀剂图案的形成方法，其包含：用权利要求1～6中任一项 所述的抗蚀剂组合物在支撑体上形成抗蚀剂膜的工序、将所述抗蚀剂膜曝 光的工序、以及将所述抗蚀剂膜进行碱显影而形成抗蚀剂图案的工序。

8.一种下述通式(I-11)表示的化合物，

A’是碳原子数为1～5的亚烷基、-O-、-S-、-O-R³-或-S-R⁴-，R³和R⁴分 别独立地为碳原子数为1～5的亚烷基，R²是碳原子数为1～6的烷基、碳 原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、羟基、 -COOR”、-OC(＝O)R”、羟烷基或氰基；a是0～2的整数；R”为氢 原子或碳原子数为1～15的直链状、支链状或环状的烷基，Y¹是可具有取 代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基，M⁺是碱金属离子，b为0-5 的整数。

9.一种下述通式(b1-1)表示的化合物，

式中，Q¹是含有酯键的2价连接基团；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可 具有取代基的氟代亚烷基；X为下式(X-4)所示的环式基，A⁺是有机阳 离子，

R²是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～ 6的卤代烷基、卤原子、羟基、-COOR”、-OC(＝O)R”、羟烷基或氰 基；a是0～2的整数；A’是碳原子数为1～5的亚烷基、-O-、-S-、-O-R³- 或-S-R⁴-，R”为氢原子或碳原子数为1～15的直链状、支链状或环状的烷 基，R³和R⁴分别独立地为碳原子数为1～5的亚烷基。

10.一种产酸剂，其由权利要求9所述的化合物形成。