[发明专利]显示面板的制造方法及光电装置的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种显示面板的制造方法及包括该显示面板的光电装置的 制造方法，尤指一种利用光电偏折层分子的分子转向诱使配向材料表面的分 子呈一配向状态，使具有配向状态的配向材料聚合而成一配向膜的显示面板 的制造方法。

背景技术

液晶显示器利用液晶分子在不同排列状态下，对光线具有不同的穿透量 来控制显示像素的亮度或色彩，进而使液晶显示器得以产生丰富的影像。液 晶显示器中通常具有配向膜，用以让邻近配向膜的液晶分子产生特定配向方 向，以便调控像素内的液晶倾倒方向。传统最常用的配向方法是在液晶显示 器未将薄膜晶体管矩阵基板及彩色滤光片基板组装前，即半成品基板，分别 将配向材料涂布于薄膜晶体管矩阵基板及彩色滤光片基板后，以附有绒毛刷 的滚轮进行刷磨来达到配向的目的，此传统的配向方法称为刷磨(rubbing)配 向处理。但刷磨式配向(rubbing alignment)会造成微尘、应力与配向不均等诸 多问题，因此非接触式的配向处理方式，例如光配向(photo alignment)、离子 束配向(ion beam alignment)、等离子束配向(plasma beam alignment)等处理， 正在积极发展。然而，上述多种非接触式的配向处理方式，仍是分别运用于 未将薄膜晶体管矩阵基板及彩色滤光片基板组装前的液晶显示器，即半成品 基板上，其中详细的制造方法如下所述。

请参考图1至图4，图1至图4为现有利用光配向法制造多视域液晶面 板的配向膜的方法示意图，其中图2为图1所示的玻璃基板的剖面示意图。 如图1与图2所示，首先提供玻璃基板12，其内表面上具有导电层14，且 玻璃基板12上定义有多个像素区域16。为了清楚起见，图1与图2仅示出 单一像素区域16作为说明，且部分元件并未同时示于图1与图2中。各像 素区域16中可进一步定义有第一配向区域18a、第二配向区域18b、第三配 向区域18c与第四配向区域18d，而且玻璃基板12为半成品基板。

接着，于玻璃基板12上涂布一层配向材料20，配向材料20具有可照光 聚合的特性且呈现未配向状态。为了于第一配向区域18a、第二配向区域18b、 第三配向区域18c与第四配向区域18d中分别形成具有不同预倾角的配向 膜，因此要分别针对位于第一配向区域18a、第二配向区域18b、第三配向 区域18c与第四配向区域18d中的配向材料20各进行一次曝光工艺。如图1 与图2所示，第一曝光步骤利用屏蔽层22遮蔽第二配向区域18b、第三配向 区域18c与第四配向区域18d，并暴露出第一配向区域18a，且利用与玻璃基 板12呈45度夹角的斜向平行光或是偏极光24照射第一配向区域18a的配 向材料20。

之后如图3所示，分别依序进行第二、第三与第四曝光步骤，各别利用 与玻璃基板12呈135度、225度与315度夹角的斜向平行光或是偏极光24 照射第二配向区域18b、第三配向区域18c与第四配向区域18d的配向材料 20。如图4所示，由于具有特定方向的斜向平行光或是偏极光24会引发配 向材料20的光学异方性，因此可以诱使配向材料20表面的分子呈现预定方 向的排列，并且同时利用斜向平行光或是偏极光24引发配向材料20产生聚 合反应，因此曝光后的配向材料20可形成配向膜26，且配向膜26于第一配 向区域18a、第二配向区域18b、第三配向区域18c与第四配向区域18d中 分别具有不同的排列方向28。

虽然光配向法可避免刷磨式配向所带来的微尘、应力与配向不均等诸多 问题，但为了提供斜向平行光或是偏极光，光配向机台需要具有精确的透镜 系统，若要进行大面积曝光，则需要使用大口径透镜系统来调整光线行进， 然而大口径透镜系统往往价格昂贵，因此用以提供平行光或是偏极光的光学 系统会导致昂贵的设备费用。

再者，为了制造多区域配向的结构，制备单一配向膜就需要进行多个曝 光步骤来提供不同的预倾角，这不但增加产品制造时间及复杂度，且需要额 外的光罩费用。此外，由于需要利用图案化光罩进行多次曝光步骤，因此产 品结构亦会受到曝光精准度与对位精准度所局限。再者，光配向法仍是分别 针对半成品基板上的配向膜来加以配向，可避免刷磨式配向所带来的微尘。 但是，环境中的微尘仍然无法避免，而可能于组装液晶显示器时，造成其它 的问题，如：亮点或暗点等。

发明内容