[发明专利]液滴喷头及液滴喷出装置有效

专利信息
申请号: 200810174805.2 申请日: 2008-11-05
公开(公告)号: CN101428502A 公开(公告)日: 2009-05-13
发明(设计)人: 松尾泰秀;大塚贤治;樋口和央;若松康介 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14;B41J2/16
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 喷头 喷出 装置
【权利要求书】:

1.一种液滴喷头,其特征在于,具有:

基板;

喷嘴板,其设置在所述基板的一个面上,且具备将喷出液作为液滴喷出的喷嘴孔;

密封板,其设置于所述基板的另一个面上,

其中,通过所述基板、所述喷嘴板和所述密封板形成贮存所述喷出液的喷出液贮存室,

所述基板和所述喷嘴板经由在所述基板的表面上设置的第一接合膜及在所述喷嘴板的表面上设置的第二接合膜接合,

所述第一接合膜及所述第二接合膜分别包括:含有硅氧烷(Si-O)键且具有无规的原子结构的Si骨架和与该Si骨架结合的脱离基,

分别通过向所述第一接合膜及所述第二接合膜的至少一部分区域赋予能量,使在所述第一接合膜的表面附近及所述第二接合膜的表面附近存在的所述脱离基从所述Si骨架脱离,利用在所述第一接合膜的表面及所述第二接合膜的表面的所述区域显示的粘接性,接合所述基板和所述喷嘴板,

所述第一接合膜及所述第二接合膜的至少一方是通过等离子体聚合法形成,并且是以聚有机硅氧烷为主材料构成。

2.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

在所述第一接合膜及所述第二接合膜的至少一方中,从构成的所有原子中除去H原子后的原子中Si原子的含有率和O原子的含有率的总计为10~90原子%。

3.根据权利要求1或2所述的液滴喷头,其中,

在所述第一接合膜及所述第二接合膜的至少一方中,Si原子和O原子的存在比为3∶7~7∶3。

4.根据权利要求1或2所述的液滴喷头,其中,

所述Si骨架的结晶化度为45%以下。

5.根据权利要求1或2所述的液滴喷头,其中,

所述第一接合膜及所述第二接合膜的至少一方含有Si-H键。

6.根据权利要求5所述的液滴喷头,其中,

在含有所述Si-H键的接合膜的红外线吸收光谱中,当将归属于硅氧烷键的峰强度设为1时,归属于Si-H键的峰强度为0.001~0.2。

7.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

所述脱离基包括选自由H原子、B原子、C原子、N原子、O原子、P原子、S原子及卤素系原子、或这些各原子被配置为与所述Si骨架结合的原子团构成的组的至少一种。

8.根据权利要求7所述的液滴喷头,其中,

所述脱离基为烷基。

9.根据权利要求8所述的液滴喷头,其中,

在作为所述脱离基含有甲基的接合膜的红外线吸收光谱中,将归属于硅氧烷键的峰强度设为1时,归属于甲基的峰强度为0.05~0.45。

10.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

所述聚有机硅氧烷以八甲基三硅氧烷的聚合物为主成分。

11.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

在所述等离子体聚合法中,产生等离子体时的高频的输出密度为0.01~100W/cm2

12.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

所述第一接合膜及所述第二接合膜的至少一方的平均厚度为1~1000nm。

13.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

所述第一接合膜及所述第二接合膜的至少一方为不具有流动性的固体状膜。

14.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

所述基板是以硅材料或不锈钢为主材料构成的。

15.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

所述喷嘴板是以硅材料或不锈钢为主材料构成的。

16.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

所述基板的与所述第一接合膜接触的面预先被实施了提高与所述第一接合膜的粘附性的表面处理。

17.根据权利要求1所述的液滴喷头,其中,

所述喷嘴板的与所述第二接合膜接触的面预先被实施了提高与所述第二接合膜的粘附性的表面处理。

18.根据权利要求16或17所述的液滴喷头,其中,

所述表面处理为等离子体处理。

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