[发明专利]曝光设备和器件制造法

权利要求书

1.一种曝光设备，它用能量束照射图案并且在把液体局部保持在 投影光学系统的像平面一侧的同时经所述投影光学系统和所述液体把 所述图案转印到基片上，所述曝光设备包括：

一个基片台，基片台上安装着所述基片，所述基片台在保持所述 基片的二维平面内移动，其中

所述基片台具有一个平坦部分，所述平坦部分在所述基片台上保 持的所述基片周边大致与所述基片的表面平齐，

所述投影光学系统和所述平坦部分能够彼此面对从而继续把所述 液体保持在所述投影光学系统的所述像平面一侧上。

2.如权利要求1所述的曝光设备，其中

所述平坦部分由多个部件组成。

3.如权利要求1所述的曝光设备，其中

所述基片台具有一个参考件，在所述参考件上形成了参考标记， 并且所述参考件的上表面基本与所述平坦部分平齐。

4.如权利要求3所述的曝光设备，其中

当暂停对所述基片的曝光操作时，所述投影光学系统和所述平坦 部分彼此面对从而继续把所述液体保持在所述投影光学系统的所述像 平面一侧上。

5.如权利要求1所述的曝光设备，所述曝光设备进一步包括：

一个回收机构，它回收保持在所述投影光学系统的所述像平面一 侧上的所述液体，其中

在已经完成对所述基片台上保持的所述基片的曝光操作后，把所 述基片台移动到预定位置从而所述投影光学系统和所述平坦部分彼此 面对，然后在所述位置，所述回收机构回收液体并且在回收完所述液 体后，已经完成了曝光操作的所述基片从所述基片台上卸载下来。

6.如权利要求1所述的曝光设备，所述曝光设备进一步包括：

一个供应机构，它把液体供应到所述投影光学系统的像平面一侧 上；和

一个排气机构，它排放所述投影光学系统的像平面一侧上的气体， 其中

所述供应机构在所述排气机构进行排气操作的同时开始供应所述 液体。

7.如权利要求6所述的曝光设备，其中

在所述投影光学系统和所述平坦部分彼此面对的状态下，所述供 应机构开始供应所述液体。

8.如权利要求1所述的曝光设备，所述曝光设备进一步包括：

一个控制单元，它至少根据所述液体的温度信息和所述液体的压 力信息中的一个信息控制所述基片台的移动。

9.如权利要求8所述的曝光设备，其中

所述控制单元至少根据所述液体的温度信息和所述液体的压力信 息中的一个信息控制所述基片台的移动，从而使得所述投影光学系统 形成的像平面和所述基片的表面彼此基本重合。

10.一种曝光设备，它用能量束照射图案并且经投影光学系统把 所述图案转印到基片上，所述曝光设备包括：

一个基片台，基片台上安装着所述基片，所述基片台在保持所述 基片的二维平面内移动；

一个供应机构，它供应液体从而用液体局部地填充所述投影光学 系统和所述基片台上的所述基片之间的空间；

一个回收机构，它回收所述液体；和

一个板，它设置在所述基片台上所述基片的安装区域的至少一部 分外围处，并且所述板的表面布置成与所述基片台上安装的所述基片 的表面基本等高，

其中所述投影光学系统和所述板的表面能够彼此面对从而继续把 所述液体保持在所述投影光学系统的所述像平面一侧上。

11.如权利要求10所述的曝光设备，其中

在所述板和所述基片之间形成的间隙设定在3mm或更小。

12.如权利要求10所述的曝光设备，所述曝光设备进一步包括：

一个干涉仪，它测量所述基片台的位置；和

一个空气调节机构，它在所述投影光学系统和所述基片之间的所 述液体的周围执行空气调节。

13.如权利要求10所述的曝光设备，其中

所述供应机构在所述板处开始液体供应。