[发明专利]磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方法

权利要求书

1.一种磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方法，包括下列步 骤：

(1)提供多个阵列式排列的磁头，每个所述磁头具有一空气承载 面；

(2)通过在所述空气承载面积淀第一类金刚石碳层从而在所述磁 头的所述空气承载面形成一混合层，所述混合层包括所述磁头的材料 和所述第一类金刚石碳层的材料；

(3)除去所述第一类金刚石碳层，露出所述混合层；及

(4)在所述混合层上形成第二类金刚石碳层。

2.如权利要求1所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成 方法，还包括以下步骤：

将所述磁头放置于托盘上；

将所述托盘装入处理室；并

将所述处理室抽空至预定压强，且上述步骤是在步骤(1)后步骤 (2)前进行。

3.如权利要求2所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方 法，其特征在于：在所述处理室被抽空之后并且进行步骤(2)前，需 要去除所述磁头的所述空气承载面上堆积的污染物。

4.如权利要求3所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方 法，其特征在于：所述污染物是用离子束蚀刻或者等离子体溅射方法 去除。

5.如权利要求1所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方 法，其特征在于：所述第一类金刚石碳层通过化学气相积淀法、离子 束积淀法或滤波阴极电弧法在每个所述磁头的所述空气承载面积淀形 成。

6.如权利要求1所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方 法，其特征在于：所述步骤(3)使用离子束蚀刻方法。

7.如权利要求6所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方 法，其特征在于：所述离子束的入射角范围是0-80度。

8.如权利要求6所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方 法，其特征在于：所述蚀刻能量范围是150-500eV。

9.如权利要求1所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成方 法，其特征在于：所述第二类金刚石碳层是通过化学气相积淀法、离 子束积淀法或滤波阴极电弧法在所述混合层上形成的。

10.如权利要求1所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成 方法，其特征在于：所述第二类金刚石碳层的厚度范围是 1.5nm-3.0nm。

11.如权利要求2所述的磁头空气承载面上类金刚石碳层的形成 方法，其特征在于：还包括通风所述处理室并从所述处理室卸载磁头 的步骤，且该步骤在步骤(4)后进行。