[发明专利]用于缺陷增强的方法无效

专利信息
申请号: 200810175667.X 申请日: 2008-07-07
公开(公告)号: CN101408521A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: L·雷兹尼克;A·利维 申请(专利权)人: 卡姆特有限公司
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G06T5/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李镇江
地址: 以色列米格*** 国省代码: 以色列;IL
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摘要:
搜索关键词: 用于 缺陷 增强 方法
【说明书】:

相关申请

本发明要求提交日为2007年7月6日、序列号为60/948,193的美国临 时专利的优先权,其在此引入作为参考。

背景技术

在验证过程期间,操作员不得不执行在先前检查阶段期间发现的可疑缺 陷的视觉验证。该被检查之后被验证的物体可以是对其进行电路检查的被检 查物体,例如但不限于印刷电路板或在其制造过程的各阶段中的晶片。

该验证系统顺序地将被检查物体的具有可疑缺陷的区域的视频图像呈现 给操作员。

期望该操作员很快地识别在呈现的图像上的可疑缺陷并且执行下列操作 之一:(i)给该缺陷做标记(作为关键缺陷),(ii)为了后面的修复给该 缺陷做标记,或(iii)修复该缺陷(立即地)。

操作员花费在该操作上的时间量极大地取决于在显示图像之内识别缺陷 有多快。

显示的图像不一定包括清晰的缺陷图像。一些缺陷几乎不能看到,一些 缺陷不能被看到,一些缺陷很难找到,等等。

这些困难可能由下列原因中的至少之一引起:(i)在通过使用很低角度 的照明获得的图像中可更容易地检查到浅短路(shallow short)(电连接两个不 应该相互连接的导体的导电材料),然而在使用其它类型的照明获得的图像 中几乎不能看到它们,(ii)几乎不能看见诸如脱钻(lost drills)、突起、断 口等各种缺陷,甚至在能看见的情况下检测它们(通过监测员)也可能时间 非常长。

上面提到的困难严重地影响了过程的生产率和验证过程的质量。

为了在验证系统上清楚地被看见,浅缺陷要求非常高度散射的照明。高 度散射照明需要在缺陷附近放置照明光学元件,从而妨碍了操作者接触缺陷、 修复缺陷或者标记缺陷(或者至少使该工作极其复杂)。

需要加快验证过程并且尤其需要增强浅缺陷的图像。

发明内容

本发明提供了一种缺陷增强的方法,该方法包括:在验证过程期间,显 示电路中与可疑缺陷相关的部分的第一图像;根据可疑缺陷的类型,在第一 图像上施加至少一个形态操作,从而提供处理的图像;以及显示该处理的图 像。

本发明提供了一种缺陷增强的方法,该方法包括:在验证过程期间,显 示电路中与可疑缺陷相关的部分的第一图像;产生图像内色带差值信息,其 代表第一图像的第一色带信息和第一图像的第二色带信息之间的差值;以及 显示该图像内色带差值信息。

附图说明

根据下面结合附图的详细描述,本发明的上述及其它目的、特征和优点 将变得更加显而易见。在附图中,贯穿整个不同视图,类似的附图标记代表 类似元件,其中:

图1示出根据本发明实施例的方法;

图2示出根据本发明的实施例的方法;

图3至图10是根据本发明的各个实施例的部分印刷电路板的图像和处理 过的部分印刷电路板的图像;及

图11示出根据本发明的实施例的第一图像和包括阈值信息的图像。

具体实施方式

本发明可通过利用传统工具、方法学和元件实施。因此,在此不详细阐 述这些工具、元件和方法学的细节。为了提供对本发明的透彻理解,在上述 描述中,阐述了众多具体细节。然而,应理解,本发明可以不靠列出的具体 细节而实施。

在本公开中仅示出和描述本发明的示例性实施例和其多样的几个示例。 应理解,本发明能够用于各种其他组合和情形中,并且能够在如此处表示的 发明原理的范围之内改变或变型。

已知,可应用于可疑缺陷的图像上的各种形态函数,其中可通过使用与 可疑缺陷的类型相关的形态函数来强调每个可疑缺陷类型。

缺陷的增强可加速验证过程并且使其更加精确。

形态函数简化图像的同时在成像对象之内保持基本形状特征。形态扩张 函数扩展形状,形态侵蚀函数收缩形状,形态打开函数由图像中的形状侵蚀 开始随后扩张,以及形态关闭函数由图像中的形状扩张开始随后侵蚀。通过 使用适当的矩阵,可以执行这些形态函数中的每一个。每一个形态函数可应 用一次或多次。

已知,形态关闭函数的应用增强短路,形态打开函数的应用增强脱钻, 形态侵蚀函数的应用增强缺口,而形态弱化函数的应用增强突起。

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