[发明专利]焦距调整机构及具该焦距调整机构的照相装置有效

专利信息
申请号: 200810176378.1 申请日: 2008-11-25
公开(公告)号: CN101738823A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 林资智 申请(专利权)人: 华晶科技股份有限公司
主分类号: G03B13/34 分类号: G03B13/34;G02B7/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 焦距 调整 机构 照相 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种照相装置及焦距调整机构。

背景技术

在现有技术中,已有具备焦距调整机构的照相装置(例如数码相机), 使用者可以按压焦距调整钮的方式以便调整焦距。举例来说,当按压焦距 按钮时,照相装置的镜头组会依所需方式进行伸缩,以便于使用者取景。

现有技术的焦距调整机构中,通常使用两个左右相邻且独立设置的焦 距调整按钮,才能达成缩放的目的。其中一个为放大钮(zoom in button), 通常按压此钮镜头组会向外伸出,使得显示于取景器(例如屏幕)的景物放 大;而另一为缩小钮(zoom out button),通常按压此钮镜头组会向内缩 回,使得显示于取景器的景物缩小。

然而,由于相机装置原本即具备许多功能按钮,若单就调整焦距的单 一功能即设置两个调整焦距按钮,其势必会影响到拍照装置其它可用的空 间。并且,功能按钮设置越多,其零元件的成本亦相对提高。

另外,于现有技术中,由于必须搭配使用两个焦距调整按钮,因此使 用者必须记得两者之间的差异,亦即使用者必须记忆何者为放大钮(zoom in button),何者为缩小钮(zoom out button),否则即会产生混淆,以 致无法顺利操控拍照装置。

因此,有必要提供一种照相装置与焦距调整机构,以改善现有技术所 存在的问题,实为至今亟待解决的课题。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种焦距调整机构及具该焦距调整机构的 照相装置,是用以调整该照相装置所具镜头组的焦距。

本发明的另一目的是提供一种焦距调整机构及具该焦距调整机构的 照相装置,以便简化调整该照相装置的镜头焦距所需的机构。

本发明的另一目的是提供一种焦距调整机构及具该焦距调整机构的 照相装置,以便增进调整该照相装置的镜头焦距的便利性。

为达成上述及其它目的,本发明提供一种焦距调整机构,设置于一照 相装置并供调整该照相装置所具一镜头组的焦距,该焦距调整机构包括: 焦距调整钮,结合于照相装置的壳体且包括一接触部;以及压力感测模块, 设置于该照相装置中对应焦距调整钮的位置以接触该接触部,该压力感测 模块并电性耦接于镜头组。当焦距调整钮被按压时,该压力感测模块可由 按压量的多寡产生不同的信号值,根据不同的该信号值可决定该镜头组的 焦距。

本发明还提供一种照相装置,是包括:一壳体;一焦距可变的镜头组; 一焦距调整钮,结合于该壳体,该焦距调整钮包括一接触部;以及一压力 感测模块,设置于该照相装置中对应该焦距调整钮的位置以接触于该接触 部,该压力感测模块并电性耦接于该镜头组,当该焦距调整钮被按压时, 该压力感测模块可由按压量的多寡输出不同的信号值,根据不同的该信号 值以决定该镜头组的焦距。

根据本发明的其中的一实施方式,该压力感测模块包括容置壳体、作 动件、弹性导电件、电阻单元与导通单元。其中,容置壳体的外侧底面接 置于电子装置,其外侧顶面则接近该焦距调整钮的接触部且设有开孔;作 动件包括一侧可活动地组设于该容置壳体中的片体,及设于片体顶面且穿 设出开孔,以便抵顶于焦距调整钮的接触部的凸出部;弹性导电件包括套 设于该片体侧边的套设部、及由套设部弯折且末端抵接于容置壳体内侧底 面的弹性回复部;电阻单元接置于容置壳体内的一侧且接触于弹性导电件 的套设部,当凸出部受压而连动片体下降时,可使套设部与电阻单元的接 触位置改变,以产生对应的电阻值,即前述的信号值;以及导通单元,其 接置于容置壳体内异于设有电阻单元的另一侧且接触于弹性导电件的套 设部。

由于本发明构造新颖,能提供产业上利用,且确有增进功效,故依法 申请发明专利

附图说明

图1是本发明的照相装置的分解示意图;

图2是本发明的焦距调整机构于焦距调整钮已被压下时的示意图;

图3是压力感测模块的分解图;

图4是压力感测模块另一角度的分解图;

图5是压力感测模块于作动件未被按压时的示意图;

图6是压力感测模块于作动件已被按压时的示意图。

【主要元件符号说明】

照相装置1             壳体10

镜头组11              焦距调整钮12

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华晶科技股份有限公司,未经华晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810176378.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top