[发明专利]离子印迹聚合物粒子的合成有效
| 申请号： | 200810176455.3 | 申请日： | 2003-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101418062A | 公开（公告）日： | 2009-04-29 |
| 发明（设计）人： | 卡拉·拉玛克瑞什娜;玛丽·格莱蒂斯·约瑟夫;塔拉斯拉·普拉萨达·拉奥 | 申请（专利权）人： | 科学与工业研究委员会 |
| 主分类号： | C08F222/14 | 分类号： | C08F222/14;C08F220/14;C08F226/06;C08F2/00;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;韩克飞 |
| 地址： | 印度*** | 国省代码： | 印度;IN |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 印迹 聚合物 粒子 合成 | ||
1.用于固相提取预浓缩铒离子的离子印迹聚合物粒子的合成方法，所述方法包括：
(a)铒印迹离子与5，7-二氯-8-羟基喹啉和4-乙烯基吡啶形成混合配体三元配合物；
(b)将所述三元配合物溶解于合适的成孔剂中，形成聚合前混合物；
(c)将步骤(b)中的混合物与功能单体和交联单体结合，并通过γ-辐射或光化学聚合或热聚合进行聚合反应，得到聚合物材料，其中所述γ-辐射是作为功能单体的浓度的函数来进行，所述功能单体为甲基丙烯酸甲酯；
(d)将步骤(c)中得到的聚合物材料磨碎、筛滤，制备铒离子印迹聚合物粒子；
(e)用无机酸选择性地浸提步骤(d)的聚合物粒子中嵌入印迹离子的材料。
2.用于固相提取预浓缩铒离子的离子印迹聚合物粒子的合成方法，所述方法包括：
(a)铒印迹离子与5，7-二氯-8-羟基喹啉和4-乙烯基吡啶形成混合配体三元配合物；
(b)将所述三元配合物溶解于合适的成孔剂中，形成聚合前混合物；
(c)将步骤(b)中的混合物与功能单体和交联单体结合，并通过γ-辐射或光化学聚合或热聚合进行聚合反应，得到聚合物材料，其中采用UV辐射实施所述光化学聚合，所述光化学聚合是作为UV辐射时间的函数来进行；
(d)将步骤(c)中得到的聚合物材料磨碎、筛滤，制备铒离子印迹聚合物粒子；
(e)用无机酸选择性地浸提步骤(d)的聚合物粒子中嵌入印迹离子的材料。
3.用于固相提取预浓缩铒离子的离子印迹聚合物粒子的合成方法，所述方法包括：
(a)铒印迹离子与5，7-二氯-8-羟基喹啉和4-乙烯基吡啶形成混合配体三元配合物；
(b)将所述三元配合物溶解于合适的成孔剂中，形成聚合前混合物；
(c)将步骤(b)中的混合物与功能单体和交联单体结合，并通过γ-辐射或光化学聚合或热聚合进行聚合反应，得到聚合物材料，其中所述热聚合是作为交联单体的浓度的函数来进行，所述交联单体为乙二醇二甲基丙烯酸酯；
(d)将步骤(c)中得到的聚合物材料磨碎、筛滤，制备铒离子印迹聚合物粒子；
(e)用无机酸选择性地浸提步骤(d)的聚合物粒子中嵌入印迹离子的材料。
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