[发明专利]单一型基片处理装置和方法

权利要求书

1、一种单一型基片处理装置，其特征在于，包括：

一处理腔，在其中基片得到处理；

一基片支撑单元，可转动地设置在所述处理腔中，用于在所述基片支撑单 元上放置基片；

一抛光单元，设置在所述处理腔中所述基片支撑单元的一侧，用于通过化 学和机械抛光方法抛光基片；和

一清洗单元，设置在所述处理腔中所述基片支撑单元的另一侧，用于清洗 所述基片。

2、如权利要求1所述的单一型基片处理装置，其特征在于，其中所述抛 光单元包括：

一抛光头，在所述抛光头上装有一抛光垫，用于抛光基片；

一第一驱动构件，用于在所述抛光头的中央旋转所述抛光头；

一第二驱动构件，用于在一水平面内移动所述抛光头；和

一第三驱动构件，用于上下移动所述抛光头。

3、如权利要求2所述的单一型基片处理装置，其特征在于，其中所述抛 光头包括：

一底部开口的圆柱形外罩；

一抛光垫底座，设置在所述外罩的底部开口处，用于与所述抛光垫相连接；

一垂直延伸的波纹管，设置在抛光垫底座的顶部表面；和

一气动构件，用于向所述波纹管施加气压。

4、如权利要求3所述的单一型基片处理装置，其特征在于，其中所述抛 光垫附着在一金属板的一侧，和

所述抛光垫底座，包括一磁性构件，用于对所述金属板施加磁力，以便使 所述金属板的另一侧可分开地附着于所述抛光垫底座。

5、如权利要求3所述的单一型基片处理装置，其特征在于，其中，所述 第一驱动构件包括：

第一驱动电机；

第一主动带轮，所述第一驱动电机的旋转轴插装在所述第一主动带轮中；

第一从动带轮，其中装有气动构件；和

第一传动带，绕在所述第一主动带轮和第一从动带轮上，用于将第一驱动 电机的旋转力从第一主动带轮传送到第一从动带轮上。

6、如权利要求3所述的单一型基片处理装置，其特征在于，其中所述第 二驱动构件包括：

一摇臂，所述摇臂的一端与所述外罩水平连接；

一垂直臂，与所述摇臂的另一端垂直连接；和

第二驱动电机，用于向所述垂直臂提供旋转力。

7、如权利要求6所述的单一型基片处理装置，其特征在于，进一步包括：

第二主动带轮，其中插装有所述第二驱动电机的旋转轴；

第二从动带轮，其中插装有所述垂直臂；和

第二传动带，第二传动带绕在所述第二主动带轮和第二从动带轮上，用于 将第二驱动电机的旋转力从第二主动带轮传送到第二从动带轮上。

8、如权利要求6所述的单一型基片处理装置，其特征在于，其中，第一 驱动构件的第一驱动电机和第一主动带轮设置在所述摇臂上，和

第一传动带通过所述摇臂的内部区域绕在第一主动轮和第一从动轮上。

9、如权利要求6所述的单一型基片处理装置，其特征在于，其中所述第 三驱动构件包括：

支座，用于可转动地支撑所述垂直臂；和

线性驱动单元，用于呈线性地上下移动所述支座。

10、如权利要求9所述的单一型基片处理装置，其特征在于，进一步包括 一导引构件，用于导引所述支座做上下线性运动。

11、如权利要求2所述的单一型基片处理装置，其特征在于，其中，第一 驱动构件沿与放在基片支撑单元上的抛光垫的旋转方向相反的方向转动所述抛 光垫。

12、如权利要求2所述的单一型基片处理装置，其特征在于，进一步包括 一抛光垫调节单元，所述抛光垫调节单元设置在所述基片支撑单元的另一侧， 用于抛光所述抛光单元的抛光垫，以调整所述抛光垫的表面粗糙度。