[发明专利]等离子天线以及含该天线的等离子处理装置有效
申请号: | 200810177554.3 | 申请日: | 2008-11-21 |
公开(公告)号: | CN101740876A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 吴贤泽;李昌桓;卢一镐;孔炳润;李正仁 | 申请(专利权)人: | 株式会社细美事 |
主分类号: | H01Q21/00 | 分类号: | H01Q21/00;H01Q1/26;H05H1/46;H01L21/3065 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 张春媛 |
地址: | 韩国忠清南*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 天线 以及 处理 装置 | ||
1.一种等离子天线,其特征在于:其用于等离子发生装置的等离子 天线中,其中前述等离子发生装置包含:
至少一个四方形电介质;
接地部,其位于前述至少一个四方形电介质的中央;
第1分支部,其位于前述至少一个四方形电介质的上方,并位于 前述接地部的垂直线上;以及
前述等离子天线,
其中前述等离子天线由下述两部分构成:
第1天线,其具有下述形状:从前述第1分支部沿水平方向向前 述至少一个四方形电介质的外周分支,各前述分支的天线沿垂直方向 向下延伸,并再次沿水平方向分支,并沿前述至少一个四方形电介质 的外周延伸,而向前述至少一个四方形电介质的中央集中,并在前述 接地部接地;以及
第2天线,其具有与前述第1天线相同的形状,但其尺寸小于前 述第1天线一定的比例,并在前述第1天线的内侧形成;
其中前述第1天线和前述第2天线并联连接。
2.根据权利要求1所述的等离子天线,其特征在于:前述第1天线 具有下述形状:其向前述至少一个四方形电介质的4个拐角分支。
3.根据权利要求2所述的等离子天线,其特征在于:前述等离子天 线具有下述形状:其从前述至少一个四方形电介质的4个拐角分别再次分 支后向前述至少一个四方形电介质的中央集中,并在前述接地部接地。
4.根据权利要求2所述的等离子天线,其特征在于:前述第1分支 部和前述第2天线上分支出的第2分支部虽电气性导通,且前述第1天线 和前述第2天线并联连接,但在前述第1分支部和前述第2分支部之间形 成可变电容器。
5.一种等离子处理装置,其特征在于,包括:
工序室;
电介质,其形成于前述工序室的中间,以便把前述工序室分割为上部 的天线室和下部的基板处理室;
气体供给部,其向前述基板处理室提供气体;
等离子天线,其在前述天线室内形成;
接地部,其位于前述电介质的中央;以及
第1分支部,其位于前述电介质的上方,并位于前述接地部的垂直线 上,
其中前述等离子天线包括:
第1天线,其具有下述形状:从前述第1分支部沿水平方向向前述电 介质的外周分支,各前述分支的天线沿垂直方向向下延伸,并再次沿水平 方向分支,并沿前述电介质的外周延伸,而向前述电介质的中央集中,并 在接地部接地;以及
第2天线,其具有与前述第1天线相同的形状,但其尺寸小于前述第 1天线一定的比例,并在前述第1天线内侧形成;
其中前述第1天线和前述第2天线并联连接。
6.根据权利要求5所述的等离子处理装置,其特征在于:前述第1 天线具有向前述电介质的4个拐角分支的形状。
7.根据权利要求6所述的等离子处理装置,其特征在于:前述等离 子天线从前述电介质的4个拐角分别再次分支后向前述电介质的中央集 中,并在前述接地部接地。
8.根据权利要求5所述的等离子处理装置,其特征在于:前述第1 分支部和前述第2天线上分支出的第2分支部虽电气性导通,且前述第1 天线和前述第2天线并联连接,但在前述第1分支部和前述第2分支部之 间形成可变电容器。
9.根据权利要求5所述的等离子处理装置,其特征在于:前述电介 质分割为4部分,支持在棋盘形状的十字形框架上。
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