[发明专利]等离子天线以及含该天线的等离子处理装置有效

专利信息
申请号: 200810177554.3 申请日: 2008-11-21
公开(公告)号: CN101740876A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 吴贤泽;李昌桓;卢一镐;孔炳润;李正仁 申请(专利权)人: 株式会社细美事
主分类号: H01Q21/00 分类号: H01Q21/00;H01Q1/26;H05H1/46;H01L21/3065
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 张春媛
地址: 韩国忠清南*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 等离子 天线 以及 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种等离子天线,其特征在于:其用于等离子发生装置的等离子 天线中,其中前述等离子发生装置包含:

至少一个四方形电介质;

接地部,其位于前述至少一个四方形电介质的中央;

第1分支部,其位于前述至少一个四方形电介质的上方,并位于 前述接地部的垂直线上;以及

前述等离子天线,

其中前述等离子天线由下述两部分构成:

第1天线,其具有下述形状:从前述第1分支部沿水平方向向前 述至少一个四方形电介质的外周分支,各前述分支的天线沿垂直方向 向下延伸,并再次沿水平方向分支,并沿前述至少一个四方形电介质 的外周延伸,而向前述至少一个四方形电介质的中央集中,并在前述 接地部接地;以及

第2天线,其具有与前述第1天线相同的形状,但其尺寸小于前 述第1天线一定的比例,并在前述第1天线的内侧形成;

其中前述第1天线和前述第2天线并联连接。

2.根据权利要求1所述的等离子天线,其特征在于:前述第1天线 具有下述形状:其向前述至少一个四方形电介质的4个拐角分支。

3.根据权利要求2所述的等离子天线,其特征在于:前述等离子天 线具有下述形状:其从前述至少一个四方形电介质的4个拐角分别再次分 支后向前述至少一个四方形电介质的中央集中,并在前述接地部接地。

4.根据权利要求2所述的等离子天线,其特征在于:前述第1分支 部和前述第2天线上分支出的第2分支部虽电气性导通,且前述第1天线 和前述第2天线并联连接,但在前述第1分支部和前述第2分支部之间形 成可变电容器。

5.一种等离子处理装置,其特征在于,包括:

工序室;

电介质,其形成于前述工序室的中间,以便把前述工序室分割为上部 的天线室和下部的基板处理室;

气体供给部,其向前述基板处理室提供气体;

等离子天线,其在前述天线室内形成;

接地部,其位于前述电介质的中央;以及

第1分支部,其位于前述电介质的上方,并位于前述接地部的垂直线 上,

其中前述等离子天线包括:

第1天线,其具有下述形状:从前述第1分支部沿水平方向向前述电 介质的外周分支,各前述分支的天线沿垂直方向向下延伸,并再次沿水平 方向分支,并沿前述电介质的外周延伸,而向前述电介质的中央集中,并 在接地部接地;以及

第2天线,其具有与前述第1天线相同的形状,但其尺寸小于前述第 1天线一定的比例,并在前述第1天线内侧形成;

其中前述第1天线和前述第2天线并联连接。

6.根据权利要求5所述的等离子处理装置,其特征在于:前述第1 天线具有向前述电介质的4个拐角分支的形状。

7.根据权利要求6所述的等离子处理装置,其特征在于:前述等离 子天线从前述电介质的4个拐角分别再次分支后向前述电介质的中央集 中,并在前述接地部接地。

8.根据权利要求5所述的等离子处理装置,其特征在于:前述第1 分支部和前述第2天线上分支出的第2分支部虽电气性导通,且前述第1 天线和前述第2天线并联连接,但在前述第1分支部和前述第2分支部之 间形成可变电容器。

9.根据权利要求5所述的等离子处理装置,其特征在于:前述电介 质分割为4部分,支持在棋盘形状的十字形框架上。

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