[发明专利]有机金属化学气相沉积反应器有效
申请号: | 200810177922.4 | 申请日: | 2008-11-21 |
公开(公告)号: | CN101440479A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 上野昌纪;高须贺英良 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 陈海涛;樊卫民 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 金属 化学 沉积 反应器 | ||
1.一种使用反应气体在衬底上沉积膜的有机金属化学气相沉积 反应器,所述有机金属化学气相沉积反应器包括:
加热构件,所述加热构件具有用于加热衬底和承载衬底的承载面; 和
导管,所述导管用于将反应气体引导到衬底;其中
所述加热构件是能够旋转的,且其承载面面向所述导管的内部;
所述导管为横向三层流动系统,并具有第一管道和第二管道,且 所述第一管道和第二管道在承载面上游端的上游的所述导管端部合 并;
所述导管的高度沿反应气体流动方向,从第一点到第二点朝向下 游单调降低,从第二点到第三点保持不变,从第三点朝向下游单调降 低;和
所述第一点位于在衬底承载位置的上游端的上游的承载面上,所 述第三点位于所述加热构件上。
2.如权利要求1所述的有机金属化学气相沉积反应器,其中所述 第二点位于衬底承载位置的上游端的上游。
3.如权利要求2所述的有机金属化学气相沉积反应器,其中所述 第二点位于承载面自身的上游端的上游。
4.如权利要求1~3中任一项所述的有机金属化学气相沉积反应 器,其中所述第一点位于第一管道和第二管道合并的位置的下游。
5.如权利要求1~3中任一项所述的有机金属化学气相沉积反应 器,其中所述导管的高度从第三点到第四点朝向下游单调降低,所述 第四点位于衬底承载位置的下游端,或所述下游端的下游。
6.如权利要求1~3中任一项所述的有机金属化学气相沉积反应 器,其中所述导管具有在第一点和第二点之间形成的第一倾斜部分和 从第三点朝向下游形成的第二倾斜部分,且所述第一倾斜部分和第二 倾斜部分在反应气体流动方向上下倾。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的