[发明专利]用于产生均匀的处理速率的方法和设备

权利要求书

1.一种用于在等离子体处理设备的处理腔室的腔室壁内的等离子 体产生区域中产生射频场分布的天线装置，其包括；

射频电感天线，射频电源连接到其上，以供应射频电流来产生延伸进 入等离子体产生区域内的第一射频场；及

无源天线，无源天线电感性耦合到射频电感天线并且配置为产生第二 射频场来修改第一射频场，使得在等离子体产生区域的射频场分布与没有 无源天线时相比增加了处理设备的处理均匀性，其中，无源天线提供电传 导路径，感应电流可以在该路径上流动，以产生至少一部分第二射频场， 其中，无源天线具有至少部分地围绕射频电感天线的一部分延伸的通道形 状。

2.如权利要求1所述的天线装置，其中，无源天线沿射频电感天线 的至少一部分长度延伸。

3.如权利要求1所述的天线装置，其中，无源天线包围射频电感天 线的一部分。

4.如权利要求3所述的天线装置，其中，无源天线沿射频电感天线 的大致全部长度包围射频电感天线。

5.如权利要求1所述的天线装置，其中，无源天线的截面形状大致 与在第一射频场的对称性没有任何不理想的情况下第一射频场在无源天 线的位置处具有的磁场线的形状匹配。

6.如权利要求1所述的天线装置，其中，无源天线具有带有边缘的 端部区域，而且该无源天线的端部区域的边缘的截面形状大致与没有该无 源天线时第一射频场在该无源天线的端部边缘的位置处具有的磁场线的 形状匹配。

7.如权利要求3所述的天线装置，进一步包括多个其他的无源天线， 其中，该无源天线和多个其他的无源天线围绕射频电感天线有角度地布 置。

8.如权利要求7所述的天线装置，其中，该无源天线和多个其他的 无源天线围绕射频电感天线大致等角度地布置。

9.一种用于调节用于等离子体处理设备中的射频天线的射频场分布 的方法，其包括以下步骤：

(a)确定射频天线的射频场分布；

(b)提供至少一个电感性地耦合到射频天线的无源天线，其中，至 少一个无源天线具有至少部分地围绕射频天线的一部分延伸的通道形状；

(c)确定无源天线对射频场分布的影响；及

重复步骤(b)和(c)。

10.如权利要求9所述的方法，其中，该方法通过计算实现。

11.如权利要求9所述的方法，其中，步骤(a)和(c)通过使用射 频磁场敏感装置测量射频天线的场分布来实现。

12.如权利要求9所述的方法，其中，步骤(a)和(c)通过确定射 频场分布对工作件上的等离子体处理的影响来实现。

13.如权利要求9所述的方法，进一步包括固定无源天线相对于射频 天线的位置的步骤。

14.如权利要求9所述的方法，其中，重复步骤(b)包括添加另外 的无源天线。

15.如权利要求9所述的方法，其中，重复步骤(b)包括重新配置 该无源天线。

16.如权利要求15所述的方法，其中，重新配置该无源天线包括从 以下组中选择的重新配置步骤，该组包括：改变无源天线的位置；改变无 源天线的朝向；改变无源天线的尺寸；改变无源天线的形状；和改变无源 天线的材料。