[发明专利]光学片、显示装置及其制作方法有效
申请号: | 200810178280.X | 申请日: | 2008-11-19 |
公开(公告)号: | CN101738647A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 刘韦志;杨界雄 | 申请(专利权)人: | 台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司;友达光电股份有限公司;瀚宇彩晶股份有限公司;奇美电子股份有限公司;财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B5/30;B32B37/12;G02F1/13363;G09F9/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 魏晓刚 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 显示装置 及其 制作方法 | ||
1.一种光学片,适于让一线偏振光通过,该光学片包括:
一基材;以及
一相位延迟膜,位于该基材上,该相位延迟膜具有多个延伸方向不同的 光轴,该相位延迟膜中不同方向的光轴区域可被控制在分子的数量级,且该 多个光轴呈现任意地排列状态,该线偏振光通过该相位延迟膜后转为具有多 种不同偏振方向的线偏振光,其中该相位延迟膜在该线偏振光通过区域的任 一处具有λ/2的相位延迟量,λ为该线偏振光的波长。
2.根据权利要求1所述的光学片,其中该相位延迟膜的材料为一光学异 向性材料,且该光学异向性材料的组成为连续相而不具有微粒相。
3.根据权利要求1所述的光学片,其中该相位延迟膜中具有一配向层,
位于邻近该基材的一侧,且该相位延迟膜中构成该些光轴的材料位于该配向 层中的同一平面上。
4.根据权利要求1所述的光学片,其中该基材为一偏振片。
5.根据权利要求1所述的光学片,还包括一保护层,该相位延迟膜位于 该保护层以及该基材之间。
6.根据权利要求5所述的光学片,还包括一光学胶,其中该光学胶位于 该保护层以及该基材之间。
7.一种显示装置,包括:
一显示面板,具有一偏振片,该显示面板自该偏振片出射一线偏振光; 以及
一光学片,位于该偏振片上,该光学片具有一相位延迟膜,该相位延迟 膜具有多个延伸方向不同的光轴,该相位延迟膜中不同方向的光轴区域可被 控制在分子的数量级,且该多个光轴呈现任意地排列状态,该线偏振光通过 该相位延迟膜后转为具有多种不同偏振方向的线偏振光,其中该相位延迟膜 在线偏振光通过区域的任一处具有λ/2的相位延迟量,λ为该线偏振光的波 长。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中该相位延迟膜的材料为光学异 向性材料,且该光学异向性材料的组成为连续相而不具有微粒相。
9.根据权利要求7所述的显示装置,其中该相位延迟膜中具有一配向层, 位于邻近该偏振片的一侧,且该相位延迟膜中构成该些光轴的材料位于该配 向层中的同一平面上。
10.根据权利要求7所述的显示装置,还包括一保护层,该相位延迟膜位 于该保护层以及该偏振片之间。
11.根据权利要求10所述的显示装置,还包括一光学胶,其中该光学胶 位于该保护层以及该偏振片之间。
12.一种光学片的制作方法,包括:
提供一基材;以及
在该基材上形成一相位延迟膜,其中该相位延迟膜具有多个延伸方向不 同的光轴,该相位延迟膜中不同方向的光轴区域可被控制在分子的数量级, 且该多个光轴呈现任意地排列状态,一线偏振光通过该相位延迟膜后转为具 有多种不同偏振方向的线偏振光,且该相位延迟膜在该线偏振光通过区域的 任一处具有λ/2的相位延迟量,λ为该线偏振光的波长。
13.根据权利要求12所述的光学片的制作方法,在该基材上形成该相位 延迟膜之前,还包括在该基材上形成一配向层,该配向层具有不同延伸方向 的配向结构。
14.根据权利要求12所述的光学片的制作方法,其中在该基材上形成该 相位延迟膜的方法包括涂布制程。
15.根据权利要求12所述的光学片的制作方法,在形成该相位延迟膜之 后,还包括形成一保护层在该相位延迟膜上,以使得该相位延迟膜位于该保 护层以及该基材之间。
16.根据权利要求15所述的光学片的制作方法,还包括形成一光学胶在 该基材上,以使得该光学胶位于该基材以及该相位延迟膜之间。
17.根据权利要求15所述的光学片的制作方法,还包括形成一光学胶在 该相位延迟膜上,以使得该光学胶位于该保护层以及该相位延迟膜之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司;友达光电股份有限公司;瀚宇彩晶股份有限公司;奇美电子股份有限公司;财团法人工业技术研究院,未经台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司;友达光电股份有限公司;瀚宇彩晶股份有限公司;奇美电子股份有限公司;财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810178280.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:对象追踪图像处理方法及其系统
- 下一篇:一种制备衣康酸二异辛酯的方法