[发明专利]光学叠层体、偏振板和图像显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及光学叠层体、其制造方法、以及具有前述光学叠层体的偏振板 (偏光板)、具有光学叠层体和偏振板中的任何一个的图像显示装置。

背景技术

在阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器 (PDP)、电致发光显示器(ELD)等图像显示装置的最表面设有包含具有各种 功能的功能层的光学叠层体。作为这样的光学叠层体，已知具有在基材上依次 设置防炫层和低折射率层等功能层的叠层结构，在这些功能层中含有作为防炫 剂的微粒子的光学叠层体(例如参照专利文献1和2)。其具有优异的防炫性能。

在这样的光学叠层体的防炫层中，广泛应用二氧化硅粒子作为防炫剂含有 二氧化硅粒子作为防炫剂的防炫层例如通过在基材上涂布含有二氧化硅粒子和 固化性树脂的防炫层形成用树脂组合物而形成。

但是在用含有二氧化硅粒子作为防炫剂的防炫层形成用树脂组合物形成光 学叠层体的情况下，存在防炫层形成用树脂组合物中的二氧化硅粒子的分散稳 定性降低而凝集，所形成的防炫层的光学特性低的问题。

专利文献1：日本特开2007-090717号公报

专利文献2：日本特开2006-267556号公报

发明内容

针对上述现状，本发明的目的是采用在用于形成含有二氧化硅粒子的防炫 层的防炫层形成用树脂组合物中二氧化硅粒子适度凝集并且分散稳定性优异的 组合物，提供一种光学特性优异的光学叠层体。

本发明的光学叠层体的特征在于，具有透光性基材、含有二氧化硅粒子的 防炫层，上述二氧化硅粒子的介电常数(比誘電率)小于4.0。

优选二氧化硅粒子的比表面积为2000m²/g以下。

优选二氧化硅粒子是无定形二氧化硅粒子。

优选相对于防炫层的树脂成分100质量份，二氧化硅粒子的含量为10～50 质量份。

此外，本发明提供图像显示装置，其特征在于在最表面具有上述光学叠层 体。

此外，本发明提供偏振板，其特征在于具有偏光元件(偏光素子)，在偏光 元件表面上具有上述光学叠层体。

此外，本发明提供图像显示装置，其特征在于在最表面上具有上述光学叠 层体或上述偏振板。

此外，本发明提供光学特性得到改善的光学叠层体的制造方法，该光学叠 层体包括透光性基材和含有二氧化硅粒子的防炫层，该方法的特征在于包括以 下步骤(a)～(e)：

(a)将二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0的步骤；

(b)将粘合剂树脂和根据需要的其它成分与前述二氧化硅粒子一起分散到 溶剂中并混合，调制防炫层形成用组合物的步骤，此时，该二氧化硅粒子间的 静电引力得到抑制，获得二氧化硅粒子的凝集得到控制的组合物；

(c)提供透光性基材的步骤；

(d)在前述透光性基材上涂布步骤(b)中调制的防炫层形成用组合物，形 成涂布膜的步骤；

(e)使前述涂布膜干燥、固化，得到光学叠层体的步骤；

在此，所获得的光学叠层体兼备优异的黑色再现性(黒色再現性)及防炫性。

优选地，在步骤(a)中，通过使用中空二氧化硅粒子作为二氧化硅粒子， 改变其空隙率(空隙率)，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。

此外，优选在步骤(a)中，通过掺杂二氧化硅粒子，将前述二氧化硅粒子 的介电常数调节到小于4.0。

此外，优选在步骤(a)中，通过对二氧化硅粒子的表面进行化学修饰，将 前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。

进一步地，优选二氧化硅粒子的表面化学修饰是使用硅氧烷材料的疏水化 表面化学处理。

下面详细地说明本发明。

本发明中，只要不特别说明，将单体、低聚物、预聚物等固化性树脂前体 总称为“树脂”。

本发明的光学叠层体在透光性基材上具有含有二氧化硅粒子的防炫层。

上述二氧化硅粒子的介电常数为1.5以上，且小于4.0。具有含有这样的二 氧化硅粒子的防炫层的本发明的光学叠层体显示出优异的光学特性的理由推测 如下：