[发明专利]用于光伏应用的抗反射涂层有效
申请号: | 200810178599.2 | 申请日: | 2008-10-13 |
公开(公告)号: | CN101425551A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
发明(设计)人: | P·T·赫尔利;R·G·里奇韦;R·N·弗尔蒂斯;M·L·奥尼尔;A·D·约翰逊 | 申请(专利权)人: | 气体产品与化学公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/06;H01L31/068;H01L31/0216;C23C16/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘 锴;韦欣华 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 应用 反射 涂层 | ||
1.一种制造包含含有p-n结的硅基质的光伏设备的方法,其中该方法 包括步骤:
通过在至少一个硅基质的表面上由组合物化学气相沉积形成无定形碳 化硅抗反射涂层,其中该组合物包含由有机硅烷、氨基硅烷及其混合物组成 的组中选择的前体,
其中该无定形碳化硅抗反射涂层是由式SivCxNuHyFz表示的薄膜,其中 v+x+u+y+z=100%,v为1-35原子%,x为5-80原子%,u为0-50原子%,y 为10-50原子%且z为0-15原子%;
其中所述前体是由下述组成的组中选择的前体:
(a)式(NR1SiR1R3)x的环硅氮烷,其中R1和R3独立地为H、C1-C4的烃, 其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全 部氟化的;且x为2-8的整数;
(b)式(CR1R3SiR1R3)x的环碳硅烷,其中R1和R3独立地为H、C1-C4的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部 分或全部氟化的;且x为2-8的整数;
(c)式(R1nR2mR3oR4p)tSi-H4-t的非环烷基硅烷,其中R1-R4为C1-C4的烃, 其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全 部氟化的;且t=n+m+o+p。
(d)R1n(NR2)4-nSi的化合物,其中R1独立地为H或C1-C4的烃,其中所 述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化 的烃;R2独立地为C1-C6的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或 多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃;且n为0-3;
(e)式R1n(NR2)3-nSi-SiR3m(NR4)3-m的化合物,其中R1和R3独立地为H 或C1-C4的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环 状的,部分或全部氟化的烃;R2和R4独立地为C1-C6的烃,其中所述烃是 直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃; 且n为0-3;m为0-3;
(f)式R1n(NR2)3-nSi-R5-SiR3m(NR4)m-3的化合物,其中R1和R3独立地为 H或C1-C4的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的, 环状的,部分或全部氟化的烃;R2、R4和R5独立地为C1-C6的烃,其中所 述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化 的烃,可选择地,R5为胺或有机胺基团;n为0-3;且m为0-3;
(g)式(R1n(NR2)3-nSi)tCH4-t的化合物,其中R1独立地为H或C1-C4的 烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分 或全部氟化的烃;R2独立地为C1-C6的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱 和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃;n为0-3;且t为 1-3;和
(h)式(R1n(NR2)3-nSi)tNH3-t,其中R1独立地为H或C1-C4的烃,其中所 述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化 的烃;R2独立地为C1-C6的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或 多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃;且n为0-3;
或者
所述前体是选自由下述组成的组中的前体:
a)R1n(NR2)4-nSi,其中R1独立地为H或C1-C12的烃,其中所述烃是直 链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的;R2独立地为C1-C12,直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分 或全部氟化的;且n为0-4;
b)R1n(NR2)3-nSi-SiR3m(NR4)m-3,其中R1和R3独立地为H或C1-C12的烃, 其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全 部氟化的烃;R2和R4独立地为C1-C12的烃,其中所述烃是直链或支链的, 饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃,n为0-3;且m 为0-3;
c)式(NR1SiR1R3)x的环硅氮烷,其中R1和R3独立地为H或C1-C12的烃, 其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全 部氟化的烃;且x为2-8的任意整数,前提是R1和R3中至少一个取代有C3或更大的烃;
d)式(CR1R3SiR1R3)x的环碳硅烷其中R1和R3独立地为H或C1-C12的 烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分 或全部氟化的烃;且x为2-8的任意整数,前提是R1和R3中至少一个取代 有C3或更大的烃;
e)R1n(NR4)3-nSi-R5-SiR3m(NR4)m-3,其中R1和R3独立地为H或C1-C12的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部 分或全部氟化的烃;R2、R4、R5独立地为C1-C12的烃,其中所述烃是直链 或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃,可选 择地,R5为胺或有机胺基团;n为0-3;且m为0-3;
f)(R1n(NR2)3-nSi)tCH4-t,其中R1独立地为H或C1-C12的烃,其中所述烃 是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃; R2独立地为C1-C12的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不 饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃,n为0-3,
g)(R1n(NR3)3-nSi)tNH3-t,其中R1独立地为H或C1-C12的烃,其中所述烃 是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃; R2和R3独立地为C1-C12的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或 多不饱和的,环状的,部分或全部氟化的烃,n为0-3;p为0-3;且t为1-3, 前提是n+p≤4且至少一个R1取代有C3或更大的烃;
h)式(NR1Si(R2)a(R3)b(NR4)c)x的环硅氮烷,其中R1、R2和R3独立地为 H或C1-C12的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的, 环状的,部分或全部氟化的烃;x为2-8的任意整数;且a、b和c为0-2 且a+b+c=2,前提是R1和R3中至少一个取代有C3或更大的烃;和
i)式(CR1R3Si(R2)b(NR3)c)x的环碳硅烷,其中R1、R2和R3独立地为H或 C1-C12的烃,其中所述烃是直链或支链的,饱和的,单或多不饱和的,环状 的,部分或全部氟化的烃,且x为2-8的任意整数;b和c为0-2且b+c=2, 前提是R1、R2和R3中至少一个取代有C3或更大的烃。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的