[发明专利]处理容器以及等离子体处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及例如对平板显示器(FPD)用的玻璃基板等的被处理体进行等离子体处理时收容被处理体的处理容器以及具有该处理容器的等离子体处理装置。

背景技术

在以液晶显示器(LCD)为代表的FPD的制造过程中，在真空状态下对玻璃基板等被处理体实施蚀刻、成膜等各种处理。为了利用等离子体进行上述处理，使用具有能够进行抽真空的处理容器的等离子体处理装置。

在等离子体处理装置中，有可能因等离子体以及腐蚀性气体的作用对金属制的处理容器的内面造成损伤。因此，例如对铝制的处理容器主体实施阳极氧化处理(氧化铝膜处理(alumite))。此外，为了防止处理容器主体受到损伤，还在处理容器的内壁面配置有保护材料(衬垫(liner))。关于衬垫的技术，例如在专利文献1中，揭示有沿着在处理容器上所形成的搬送口的内壁面上配置可装卸的衬垫的技术。

但是，在等离子体处理装置的处理容器内部，等离子体的分布以及气流会发生偏离。因此，在处理容器内部，在等离子体和气流易于集中的地点，因等离子体和腐蚀性气体的作用而导致衬垫在局部发生激烈消耗。若引起该局部的消耗，则会导致衬垫的寿命变短，在短期间内必须对衬垫进行交换。专利文献1：国际公开WO 2002/29877号

近阶段，对FPD用基板的大型化的要求进一步增强，有时会以单边的长度超过2m的巨大基板作为处理对象。随着基板的大型化，处理容器也随之大型化。为了保护这种大型的处理容器，衬垫也变得大型化。当大型的衬垫存在局部消耗时，有必要以较短的使用周期交换整个衬垫。因此，作业时间以及衬垫所引起的部件消耗增加，产生较大的负担。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而提出的，其目的在于提供一种处理容器，能够在等离子体处理装置中很容易地进行保护处理容器的内表面用的保护部件的交换，并且能够抑制部件成本。

本发明的一种处理容器，是将被处理体收容在内部并且对该被处理体进行等离子体处理的处理容器，其特征在于，包括：

具有开口部分的容器主体；和

保护所述容器主体不受由等离子体以及/或者腐蚀性气体所引起的损伤的保护部件，其中，

所述保护部件包括：

沿着所述容器主体的内壁面设置的第一保护部件；和

在所述开口部分的周围，与所述第一保护部件相分离而能够装卸地设置的第二保护部件。

在本发明的处理容器中，可以是所述第一保护部件具有与所述容器主体的开口部分相对应的尺寸的开口，并且被直接安装在所述容器主体上，

所述第二保护部件与所述第一保护部件相比形成为小片，重叠安装在所述第一保护部件上。

此外，在本发明的处理容器中，可以是在所述第二保护部件的表面设置有具有等离子体侵蚀耐性的陶瓷喷镀膜。此时，所述陶瓷喷镀膜可以为Y₂O₃或者YF₃的喷镀膜。此外，可以在所述第一保护部件的表面设置有通过氧化铝膜处理得到的氧化被膜或者Al₂O₃喷镀膜。

此外，在本发明的处理容器中，可以是所述保护部件包括沿着所述开口部分的内壁面设置的筒状的第三保护部件，

所述第三保护部件的端部和所述第一保护部件的端部形成为在结合部分的截面中的两部件的边界线呈非直线的嵌合结构而结合，所述第二保护部件将该结合部分覆盖。

此外，在本发明的处理容器中，可以是所述保护部件还包括沿着所述开口部分的内壁面设置的筒状的第三保护部件，

所述第三保护部件具有在其一端部向外侧突出的凸缘部，

所述第一保护部件在其开口端具有台阶部，

所述第三保护部件和所述第一保护部件通过嵌合所述凸缘部和所述台阶部而结合，所述第二保护部件将该结合部分覆盖。此时，可以是在所述第三保护部件的表面设置有具有等离子体侵蚀耐性的陶瓷喷镀膜，所述陶瓷喷镀膜可以为Y₂O₃或者YF₃的喷镀膜。

此外，在本发明的处理容器中，可以是所述第二保护部件形成为截面呈L字形。

此外，在本发明的处理容器中，可以是所述保护部件还包括重叠设置在所述第二保护部件的上面的第四保护部件。此时，可以在所述第四保护部件的表面设置有具有等离子体侵蚀耐性的陶瓷喷镀膜，所述陶瓷喷镀膜可以为Y₂O₃或者YF₃的喷镀膜。