[发明专利]图像形成装置有效

专利信息
申请号: 200810179024.2 申请日: 2008-11-25
公开(公告)号: CN101482728A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: 南条让;中嶋荣次;近藤昭浩;石田直行;权钟浩;笠间健一 申请(专利权)人: 京瓷美达株式会社
主分类号: G03G15/20 分类号: G03G15/20;H05B6/36
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 代理人: 李雪春;武玉琴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 形成 装置
【权利要求书】:

1.一种图像形成装置,其特征在于包括:

图像形成部,把调色剂图像转印到薄片体上;以及

定影单元,具有加热构件和加压构件,并把所述薄片体夹在该加热构件和加压构件之间进行输送,在该输送过程中,至少利用来自所述加热构件的热量,把调色剂图像定影在薄片体上;其中,

所述定影单元包括:

线圈,产生用于对所述加热构件进行感应加热的磁场;

第一磁芯,由磁性材料制成,固定配置在所述线圈的周围,用于在所述线圈的周围形成磁路;

第二磁芯,由磁性材料制成,在由所述线圈产生的磁场方向上,配置在所述第一磁芯和所述加热构件之间,该第二磁芯能够改变姿势,用于与所述第一磁芯一起形成磁路;

屏蔽构件,由非磁性金属制成,沿所述第二磁芯的外表面设置,用于在所述线圈产生的磁场内进行磁屏蔽;以及

磁屏蔽部,用于使所述第二磁芯在所述屏蔽构件进行磁屏蔽的第一姿势和所述屏蔽构件不进行磁屏蔽的第二姿势之间改变姿势,

所述屏蔽构件具有环形形状部,

在所述第二磁芯处于所述第一姿势的状态下,所述线圈产生的磁场贯通所述屏蔽构件的环形形状部内,

在所述第二磁芯处于所述第二姿势的状态下,所述线圈产生的磁场通过所述屏蔽构件的环形形状部的外侧。

2.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述第二磁芯绕与所述线圈产生的磁场通过方向交叉的轴线转动,来改变姿势,

所述磁屏蔽部包括转动机构,用于使所述第二磁芯绕所述轴线转动,来使该第二磁芯在所述第一姿势和所述第二姿势之间改变姿势。

3.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,所述屏蔽构件呈一个具有共同外周部分的方形环形状,在所述加热构件的长边方向上,该方形环的内部被分割成多个部分。

4.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述线圈沿所述加热构件的外表面配置,并且所述第一磁芯被分割配置在所述线圈的沿所述外表面的中心的两侧,

所述第二磁芯设置在磁路经过被分割的所述第一磁芯与所述线圈的中心汇合的位置上。

5.根据权利要求4所述的图像形成装置,其特征在于,

所述加热构件的至少一部分具有圆弧形的外表面,

所述线圈配置在沿所述加热构件的圆弧形外表面假想形成的圆弧面上,该假想圆弧面形成在所述加热构件的圆弧形外表面的外侧,并与该加热构件的圆弧形外表面同心,

所述第二磁芯为圆筒形或圆柱形,

所述屏蔽构件沿所述第二磁芯的外表面弯曲成圆弧形状,其中,

当把配置所述线圈的假想圆弧面的曲率半径设为r1,把在所述屏蔽构件的位置切换到屏蔽位置的状态下,从所述加热构件的圆弧形外表面的曲率中心到所述屏蔽构件外表面的最短距离设为r2时,r1>r2的关系成立。

6.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,配置所述线圈的假想圆弧面在所述第二磁芯处于所述第一姿势的状态下,位于在所述第二磁芯圆周方向上的所述屏蔽构件端点附近的位置。

7.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,所述第一磁芯在所述第二磁芯处于所述第二姿势的状态下,位于比在所述第二磁芯圆周方向上的所述屏蔽构件端点的位置更靠近所述加热构件的位置上。

8.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述加热构件由定影辊或卷挂在加热辊与定影辊上的加热带构成,

还包括温度控制部,控制所述线圈对所述加热构件进行感应加热的状态,

所述温度控制部沿所述加热辊或定影辊的内圆周面配置,具有对所述加热辊或定影辊的温度产生反应的温度反应元件,并根据该温度反应元件的反应结果控制所述线圈的动作。

9.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,所述屏蔽构件的材料是铜。

10.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,所述屏蔽构件由非磁性金属制成,厚度在0.5mm~3mm范围内。

11.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述线圈配置在所述加热构件的外侧,

所述第二磁芯配置在所述加热构件的内侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷美达株式会社,未经京瓷美达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810179024.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top