[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种浸没光刻设备，包括：

表面，所述表面至少周期地接触浸没液体；和

主动浸没液体控制系统，包括：

第一电极，其电连接到将在所述表面上受控制的浸没液体，

第二电极，其与所述表面结合并与位于所述表面上的浸没液体电 隔离，和

电压控制器，其构造成在第一和第二电极之间提供受控的电压 差。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述表面是抽取装置的多孔元件的 表面。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述多孔元件的至少一部分用作 所述第一或第二电极。

4.如权利要求3所述的设备，其中所述多孔元件包括由形成所述第 二电极的电传导材料形成的中心部分，和电绝缘材料的涂敷层。

5.如权利要求4所述的设备，其中所述第一电极电连接到位于多孔 元件的侧边的浸没液体，浸没液体通过抽取装置被抽取至多孔元件的所述 侧边。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述主动浸没液体控制系统包括：

多个第一电极，配置在所述表面上使得位于所述表面上的浸没液体的 液滴能够电连接到至少一个第一电极；和

多个第二电极，配置在所述表面上使得位于所述表面上的浸没液体的 任何液滴与所述第二电极电隔离。

7.如权利要求6所述的设备，构造成在所述第一电极和所述第二电 极之间提供电压差，所述电压差导致位于所述表面上的浸没液体的液滴的 电浸湿，所述液滴与至少一个所述第一电极接触使得每个液滴在所述表面 上展开。

8.如权利要求6或7所述的设备，其中所述主动浸没液体控制系统 构造成控制位于至少一个表面上的浸没液体，所述表面选自下面的表面： 浸没光刻设备的投影系统的表面，所述投影系统构造成将图案化的辐射束 投影到衬底上；衬底台的表面，所述衬底台构造成支撑衬底；和浸没系统 的表面，所述浸没系统构造成供给浸没液体到投影系统的最终元件和衬底 之间的空隙。

9.如权利要求1所述的设备，还包括：

衬底台，其构造成保持衬底，所述衬底台包括：

所述第二电极，和

其中至少周期地接触浸没液体的所述表面是所述衬底台的表面、

当衬底台支撑衬底时衬底的表面，或衬底台和衬底两者的表面。

10.如权利要求9所述的设备，其中所述衬底台包括：

多个第二电极，所述第二电极彼此电隔离并且与位于所述表面上的浸 没液体电隔离，并且所述电压控制器构造成独立地控制位于所述第一电极 和每个所述第二电极之间的电压差。

11.如权利要求9或10所述的设备，构造成使得：在使用时，基本 上所述衬底的整个主表面覆盖有浸没液体，和其中所述电压控制器构造成 在所述第一电极和与所述衬底的、所述衬底台的或所述衬底和所述衬底台 两者的被认为存在形成干燥区域风险的区域结合的第二电极之间提供电 压差。

12.如权利要求9或10所述的设备，其中所述第二电极位于所述衬 底台的所述表面上或所述表面处，并涂敷有电绝缘材料的涂敷层。

13.如权利要求1所述的设备，其中所述浸没液体是电传导的。

14.如权利要求1所述的设备，其中所述电压控制器构造成在所述第 一和第二电极之间提供交流电压。

15.一种器件制造方法，包括：

将衬底支撑在衬底台上；

应用投影系统将图案化的辐射束投影到所述衬底上；

应用浸没系统将浸没液体供给到所述投影系统和所述衬底或衬底台 之间的空隙；

通过在电连接到将被控制的浸没液体的第一电极和与至少一个表面 结合并与将被控制的浸没液体电绝缘的第二电极之间施加受控制的电压， 控制位于至少一个表面上的浸没液体，所述表面选自下面的表面：投影系 统的表面、衬底台的表面和浸没系统的表面。