[发明专利]具有研磨粒的抛光垫及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种抛光垫及其制造方法，具体地说，涉及一种具有研磨粒的抛光垫及 其制造方法。

背景技术

常规抛光方法采用抛光液搭配抛光垫的模式。抛光液中具有多个研磨粒，研磨粒用 以对被抛光工件的表面进行抛光。抛光垫具有多个孔洞，各孔洞相互连通，以使抛光液 平均分布在抛光垫的表面，从而提升抛光能力。

常规抛光方法的缺点如下。抛光时，抛光液流通在孔洞中时，抛光液中的研磨粒易 堵塞孔洞，导致抛光能力下降。而后则需用修整器来修整被堵塞的孔洞，以恢复抛光垫 的抛光能力。然而在原有制程中添加此程序，会提高成本且降低效率。

另一种常规抛光方法是使用具有研磨粒的抛光垫。参考图1，显示第I233384号中 国台湾专利公告所揭示的常规具有研磨粒的抛光垫的示意图。具有研磨粒的抛光垫1包 括底层11和抛光层12。抛光层12位于底层11上，抛光层12具有树脂121和多个研磨 粒122。树脂121包覆研磨粒122，树脂121具有抛光面1211。部分研磨粒122显露于 树脂121的抛光面1211。

常规具有研磨粒的抛光垫1的缺点如下。具有研磨粒的抛光垫1是利用树脂121固 定住研磨粒122，因此抛光时研磨粒122被固定在同一位置，以相同应力在相同方向上 进行研磨，而容易在被抛光工件上造成刮伤。同时，树脂121逐渐被磨去，而使固定在 树脂121内的研磨粒122显露于所述抛光面1211的面积越来越大，导致刮伤的情况更 加严重。

因此，有必要提供一种创新且具进步性的具有研磨粒的抛光垫及其制造方法，以解 决上述问题。

发明内容

本发明提供一种具有研磨粒的抛光垫，其包括多条纤维、多个研磨粒和一高分子体。 所述纤维交错排列成纤维基材。所述研磨粒附着在所述纤维上。所述高分子体包覆所述 纤维和所述研磨粒。

本发明进一步提供一种具有研磨粒的抛光垫的制造方法，包括以下步骤：(a)提供 纤维基材，所述纤维基材具有多条纤维和多个研磨粒，所述纤维交错排列，所述研磨粒 附着在所述纤维上；(b)将所述纤维基材含浸在高分子溶液中；以及(c)进行固化步 骤，使得所述纤维基材被高分子体所包覆。

借此，所述纤维的柔韧性使所述研磨粒不易刮伤被抛光工件的表面，且所述抛光垫 只需以不具有研磨粒的酸性、碱性抛光液或具有电解质的电解液溶液的辅助，就有相当 好的抛光能力，可避免常规技术中抛光液的研磨粒堵塞抛光垫的孔洞的情况。此外，利 用所述抛光垫抛光后，被抛光工件的表面只残留少数研磨粒，仅需简单的清洗程序就可 完成，且也容易进行废水处理。

附图说明

图1显示常规具有研磨粒的抛光垫的示意图；

图2显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第一实施例的示意图；

图3显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第一实施例的纤维的剖面示意图，其中所述 纤维为实心的；

图4显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第一实施例的纤维的剖面示意图，其中所述 纤维为空心的；

图5显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第一实施例的制造方法的流程图；

图6显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第二实施例的示意图；

图7显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第二实施例的纤维的剖面示意图，其中所述 纤维为实心的；

图8显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第二实施例的纤维的剖面示意图，其中所述 纤维为空心的；以及

图9显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第二实施例的制造方法的流程图。

具体实施方式

参考图2，其显示本发明具有研磨粒的抛光垫的第一实施例的示意图。具有研磨粒 的抛光垫2包括多条纤维21、多个研磨粒22和一高分子体23。在其它应用中，抛光垫 2进一步包括底层，所述底层可为背胶层或为另一复合层。

研磨粒22附着在纤维21上，且纤维21交错排列成纤维基材24。在本实施例中， 纤维21为实心的且研磨粒22位于纤维21的表面(如图3所示)。在其它应用中，纤维 21可为空心的且研磨粒22位于纤维21的表面(如图4所示)。