[发明专利]拼接式液晶面板及工艺以及所组合的大屏幕显示器

说明书

本发明属电子及光电技术，拼接式液晶面板极其生产工艺以及所拼接的大屏 幕显示器；确切的讲是一种电子及光电技术的显示产品及其加工工艺.

使用小尺寸(32英寸以下)的液晶面板生产线，来生产大尺寸的液晶面板，所需 增加的投资往往数以十亿计！

本发明给出一种生产难度简化结构及生产工艺，可在不需要追加投资的情况 下完成生产40英寸以上的大尺寸的液晶面板；另一方面也给出了便于缩短液晶面 板的电极引出的方式，易于制造更大尺度的窄边拼接屏，用于监控行业.

本发明的特点是：分解结构上的难度；拼接式液晶面板可用2块以上的独立电 晶体玻璃基板与彩色滤光片(可以是一块)组合而成；也就是由多块电晶体玻璃 基板与多块或一整块彩色滤光片组合而成.纵横电极的引出尽可能就近直接(小 的方向改变)引出；尽量避免在液晶面板的边界区横向走线，而引出电极尽量弯折 小的角度，就近引出，这样一来才能获得很小的非图象显示区的宽度，电极的引出是从多 块液晶面板的非彼此接壤的周边引出；以减小边区的宽度(可在5mm内)；同时所 增加的承载基板也有利于增加强度.

本发明的技术关键为；由多块液晶面板(由电晶体玻璃基板与彩色滤光片组 合而成)拼接而成.多块液晶面板放置在一块统一的承载基板/多块独立液晶面 板构件/表面加固膜等构件组成.其工作原理为：(例如4块)多块液晶面板的工作 电极可保持相互独立性(也可以在拼接区互相连通).还有的特征就是；使用统一 的背光源，兼有保护功能的偏振光片也可以是覆在统一的承载基板上.

生产工艺的技术关键：接近传统的阵列制程及组立制程以及拼接模组制程； 工艺只是组立制程有所差别，改为(拼接)组立制程，另2个制程基本不变；具体如下： 阵列制程；(拼接)组立制程；模组制程.所制的已抽真空并注入液晶的多块独立液晶 面板模组覆盖于用于支撑的统一基板上，再以压边或粘接方式加以固定，形成统 一的一体化的拼接液晶面板；也可以由多块所制的独立液晶面板构件(完成组立 制程后还未注入液晶)夹于用于支撑的2层承载基板之间(此时电晶体玻璃基板 与彩色滤光片是同样块数)，然后再统一注入液晶.

密封及粘接边区域较以往技术有所不同，(电晶体玻璃基板与彩色滤光片) 的拼接区域可以不用密封，只是拼接之后所形成的新的周边需要密封.

以下阐述的是现有技术以便进行比对：制造TFT-LCD主要有三个重要的流 程：阵列制程；组立制程；模组制程；以下是传统3个制程的主要流程过程.

阵列制程

一片表面光滑，没有任何杂质的玻璃，是制造TFT玻璃基板最主要的原料.在 制作之前，需用特殊的冼净液，将玻璃洗得干干净净，然后脱水，甩干.

要使玻璃基板镀上金属薄膜，需先将金属材料放在真空室内，让金属上面的 特殊气体产生电浆后，金属上的原子就会被撞向玻璃，然后就形成一层层的金属 接近薄膜了.

镀完金属膜后，我们还要镀上一层不导电层与半导电层，在真空室内，先将 玻璃板加温，然后由高压电的喷洒器喷洒特殊气体，让电子与气体产生电浆，经 过化学反应后，玻璃上就形成了不导电层与半导体层。

薄膜形成后，我们要在玻璃上制作电晶体的图案。首先，要进入黄光室喷上 感光极强的光阻液，然后套上光罩照射蓝紫光进行曝光，最后送到显影区喷洒显 影液，这样可以去除照光后的光阻，还可以让光阻层定型哦。

光阻定型后，我们可用蚀刻进行湿式蚀刻，将没有用的薄膜露出，也可用电 浆的化学反应进行干式蚀刻，蚀刻后再将留下的光阻以溜液去除，最后就产生电 晶体所需要的电路图案了。

要形成可用的薄膜电晶体，需要重复清洗，镀膜，上光阻，曝光，显影，蚀 刻，去光阻等过程，一般来说，要制造TFT-LCD，就要重复5到7次。

组立制程

完成薄膜电晶体玻璃基板后，我们就要进行液晶面板的组合了，液晶面板是 由电晶体玻璃基板与彩色滤光片组合而成，首先，我们要先将玻璃洗干净，再进 行下一个步骤。TFT-LCD的整个制造过程都必须在无尘室内，这样才不会有杂质 在显示器里面。

彩色滤光片是以化学涂布的方式，在玻璃上形成红、绿、蓝的颜色，整齐排 列后再覆盖一层会导电的薄膜即完成。

在整个组合的过程中，首先我们要为布满电晶体的玻璃和彩色滤光片涂上一 层化学薄膜，然后再进行配向的动作。

在组合二片玻璃板之前，我们要先平均布满类似球状的隙子固定间隔，以免 液晶面板组合后，二片玻璃向内凹曲。通