[发明专利]粉体输送装置及聚烯烃的制造方法无效

专利信息
申请号: 200810183724.9 申请日: 2008-12-11
公开(公告)号: CN101455953A 公开(公告)日: 2009-06-17
发明(设计)人: 小川弘之;佐藤秀树 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: B01J8/28 分类号: B01J8/28;C08F10/00;C08F2/00;C08F2/34
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱 丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 输送 装置 烯烃 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种粉体输送装置及使用其的聚烯烃的制造方法。

背景技术

过去,在铅直型的多段流动层反应器等中,作为从上段向下段输送粉体的机构,已知有被称为下行管(down comer tube)的连通上段和下段的管(例如参照美国专利第5235009号说明书)。

如果利用这样的下行管,则在上段从下行管的上端开口部落到下行管内的粉体因重力落到下行管内,从下行管的下端开口部被排出,从而可以将粉体从上段输送至下段。

但是,过去的下行管不能任意地控制粉体的输送量。即,粉体的输送量主要由下行管的直径及下行管的上端或下端的位置等机械形状等决定,难以控制粉体的输送量。

也考虑到了在下行管设置用于控制利用下行管输送的粉体的输送量的机械式阀(valve),但在装置内设置结构复杂的机械式阀会引起各种问题(trouble)的发生,故不优选。

发明内容

本发明正是鉴于所述课题而提出的,其目的在于提供一种能够容易地控制粉体的排出量而且结构简单的粉体输送装置,以及提供一种使用其的聚烯烃粉体的制造方法。

本发明中的粉体输送装置具备向下方延伸的下行管和配置于下行管的下方的气体滑块(gas slider),气体滑块在下行管的下端的开口的相对面上,具有有多个气体喷出口的气体分散板。

如果利用本发明,使气体从气体滑块的气体分散板喷出,使存在于下行管的下端与气体分散板之间的粉体充分地流化,则该粉体变得极容易活动,可以使其在气体分散板的表面上容易地向横方向移动,可以使该粉体从气体分散板的端部落到下方。因而,为了补充落下的部分的粉体而粉体从下行管的下端的开口被排出到气体分散板上,从而粉体被输送。另外,如果增加从气体分散板喷出的气体的量,则可以增加粉体的输送量。

与此相对,如果减少或使从气体滑块的气体分散板喷出的气体的量为零,抑制或使下行管的下端与气体滑块的气体分散板之间的粉体的流化状态成为非流化状态,则该粉体变得难以在气体分散板上活动,所以从气体分散板的端部落下的粉体的量减少,从管的下端的开口排出到气体分散板上的粉体的量变少。因而,可以减少粉体的输送量。

在此,气体分散板具备与下行管的下端的开口相对的相对部和以宽度W包围相对部的周围的周边部,在粉体的安息角为θr、下行管的下端与所述气体分散板的距离为L时,周边部的宽度W在相对部的周围均满足W≧L·cot(θr)。

如果这样地进行,则通过停止气体从气体喷出口喷出,在气体分散板上形成倾斜角为安息角θr以下的非流化状态的粉体的山,粉体从气体分散板的端部的落下停止。这样,可以停止粉体从下行管的下端的开口向气体分散板上的排出,可以使粉体的输送量为零。

本发明中的烯烃聚合反应装置具备在上下方向配置的多个聚合段和将在上段侧的聚合段中存在的聚烯烃粉体输送至下段侧的聚合段的上述的粉体输送装置。

本发明中的聚烯烃制造方法具备如下所述的工序,即:在上下方向上具有多个聚合段的烯烃聚合反应装置内,利用所述的粉体输送装置,将存在于上段侧的聚合段的聚烯烃粉体输送至下段侧的聚合段。

如果利用这些发明,则可以任意地控制聚烯烃粉体的段间的输送量,所以稳定的运转成为可能。尤其在聚烯烃的聚合中,如果具有机械式阀等可动部,则容易发生聚合物的附着引起的不良情形,而上述的粉体输送装置则没有可动部,所以非常适合。

如果利用本发明,则可以提供能够容易控制粉体的排出量而且结构简单的粉体输送装置以及使用其的聚烯烃制造装置及方法。

附图说明

图1是本发明的实施方式的粉体输送装置的概略截面图。

图2是图1的气体分散板6附近的一部分断裂截面图。

图3是表示在图1的粉体输送装置中喷出气体的状态的概略截面图。

图4是表示具备图1的粉体输送装置的聚烯烃制造系统的实施方式的概略结构图。

图5是图4的烯烃聚合反应装置10A的放大概略截面图。

图6是表示具备图1的粉体输送装置的其他聚烯烃制造系统的实施方式的概略结构图。

图7与实施例及比较例相关。

具体实施方式

以下参照附图详细说明本发明的优选实施方式。其中,在附图的说明中,同一或相当要素带同一符号,省略重复说明。另外,各附图的尺寸比率不一定与实际的尺寸比率一致。

(粉体输送装置)

本实施方式中的粉体输送装置主要具备下行管2和气体滑块4。

下行管2是大致向铅直方向延伸的管,其上端与贮存粉体的容器的器壁30d内连通。

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