[发明专利]双面显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810184665.7 申请日: 2008-12-11
公开(公告)号: CN101752401A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 李石运;黄浩榕;徐怡华;黄冠达 申请(专利权)人: 奇晶光电股份有限公司;奇美电子股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/82
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蹇炜
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 双面 显示装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种双面显示装置,包括:

第一透明基板,具有可视区;

阳极电极,设置于所述第一透明基板上;

有机电激发光层,设置于所述阳极电极上;

阴极电极,设置于所述有机电激发光层上,所述阴极电极的面积不小 于所述可视区的范围;及

第一辅助电极,设置于所述阴极电极上,所述第一辅助电极对应所述 可视区的至少一侧边设置,且所述第一辅助电极的电极具有间隔。

2.如权利要求1所述的双面显示装置,其中所述第一辅助电极是对 应所述可视区的周边设置。

3.如权利要求1所述的双面显示装置,其中所述第一透明基板的所述 可视区内包括第一列像素与第二列像素,所述双面显示装置还包括:

第二辅助电极,设置于所述阴极电极上,并对应所述第一列像素与所 述第二列像素的间隔设置。

4.如权利要求1所述的双面显示装置,其中所述第一透明基板是薄膜 晶体管基板,所述阳极电极耦接至所述薄膜晶体管基板。

5.如权利要求1所述的双面显示装置,还包括:

第二透明基板,设置于所述第一透明基板之上,用于将所述阳极电极、 所述有机电激发光层、所述阴极电极与所述第一辅助电极封装于所述第一 透明基板与所述第二透明基板之间。

6.如权利要求5所述的双面显示装置,还包括:

第一偏光板,设置于所述第一透明基板的外侧;及

第二偏光板,设置于所述第二透明基板的外侧。

7.一种双面显示装置的制造方法,包括:

(a)提供第一透明基板;

(b)形成阳极电极于所述第一透明基板上;

(c)形成有机电激发光层于所述阳极电极上;

(d)形成阴极电极于所述有机电激发光层上,并使所述阴极电极的面积 不小于所述第一透明基板上可视区的范围;及

(e)形成第一辅助电极于所述阴极电极上,使所述第一辅助电极对应于 所述可视区的至少一侧边并使所述第一辅助电极的电极具有间隔。

8.如权利要求7所述的制造方法,其中所述第一辅助电极对应所述可 视区的周边设置。

9.如权利要求7所述的制造方法,其中所述步骤(e)包括:

(e1)设置掩膜于所述第一透明基板之上,所述掩膜具有至少一开口,使 所述开口对应所述可视区的所述侧边设置;

(e2)蒸镀形成所述第一辅助电极的电极材料于所述阴极电极上,并使所 述电极材料填满所述开口;及

(e3)去除所述掩膜,所述第一辅助电极的形状实质上为所述开口的形 状。

10.如权利要求7所述的制造方法,其中所述第一透明基板的所述可 视区内包括第一列像素与第二列像素,所述制造方法还包括:

(f)形成第二辅助电极于所述阴极电极上,并使所述第二辅助电极对应 于所述第一列像素与所述第二列像素的间隔设置。

11.如权利要求10所述的制造方法,其中所述第二辅助电极与所述第 一辅助电极同时形成于所述阴极电极上。

12.如权利要求11所述的制造方法,其中所述步骤(f)包括:

(f1)设置掩膜于所述第一透明基板之上,所述掩膜具有至少一第一开口 与至少一第二开口,使所述第一开口对应所述可视区的所述侧边设置,并 使所述第二开口对应所述第一列像素与所述第二列像素的所述间隔设置;

(e2)蒸镀形成所述第一辅助电极与所述第二辅助电极的电极材料于所 述阴极电极上,并使所述电极材料填满所述第一开口与所述第二开口;及

(e3)去除所述掩膜,所述第一辅助电极的形状实质上为所述第一开口的 形状,所述第二辅助电极的形状实质上为所述第二开口的形状。

13.如权利要求10所述的制造方法,其中所述第二辅助电极为长条形 电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奇晶光电股份有限公司;奇美电子股份有限公司,未经奇晶光电股份有限公司;奇美电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810184665.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code