[发明专利]光刻设备、工作台系统和工作台控制方法有效
申请号: | 200810185622.0 | 申请日: | 2008-12-17 |
公开(公告)号: | CN101464634A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
发明(设计)人: | 毛里求斯·G·E·斯克乃德斯;威廉姆斯·F·J·西蒙斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 设备 工作台 系统 控制 方法 | ||
1.一种光刻设备,包括:
照明系统,该照明系统配置为调节辐射束;
图案化装置支撑,该图案化装置支撑配置为支撑图案化装置,所述图案化装置能够引入在其横截面具有图案的所述辐射束,以形成图案化的辐射束;
衬底支撑,该衬底支撑配置为保持衬底;
投影系统,该投影系统配置为将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上,及
工作台控制系统,该工作台控制系统配置为响应于位置设定点信号控制所述支撑中的一个支撑的位置,所述工作台控制系统包括:
反馈控制环,该反馈控制环配置为以反馈方式控制所述位置,所述反馈控制环具有设定点输入,及
加速度前馈,该加速度前馈配置为产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号,所述前馈信号从所述位置设定点信号导出,
其中所述工作台控制系统被安排为将所述位置设定点信号修改为修改的位置设定点信号,所述反馈控制环的所述设定点输入安排为接收所述修改的位置设定点信号,所述修改的位置设定点信号安排为考虑所述支撑中的所述一个支撑的非刚体特性。
2.根据权利要求1所述的光刻设备,其中所述工作台控制系统被安排为,通过将设定点成形信号加到所述位置设定点信号上而产生所述修改的设定点信号。
3.根据权利要求2所述的光刻设备,其中所述工作台控制系统被安排为,通过用设定点成形函数乘所述前馈信号而确定所述设定点成形信号。
4.根据权利要求3所述的光刻设备,其中所述设定点成形函数被选择为用于补偿所述支撑中的所述一个支撑的定位误差,所述定位误差基本上等于所述前馈信号乘所述支撑中的所述一个支撑的转移函数部分,所述转移函数部分用于模拟所述支撑中的所述一个支撑的所述非刚体特性。
5.一种用于光刻设备的工作台系统,包括:
可移动的工作台;及
工作台控制系统,该工作台控制系统配置为响应于位置设定点信号控制所述工作台的位置,所述工作台控制系统包括:
反馈控制环,该反馈控制环配置为以反馈方式控制所述位置,所述反馈控制环具有设定点输入,及
加速度前馈,该加速度前馈配置为产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号,所述前馈信号从所述位置设定点信号导出,
其中所述工作台控制系统被安排为将所述位置设定点信号修改为修改的位置设定点信号,所述反馈控制环的所述设定点输入被安排为接收所述修改的位置设定点信号,所述修改的位置设定点信号被安排为考虑所述工作台的非刚体特性。
6.根据权利要求5所述的工作台系统,其中所述工作台控制系统被安排为,通过将设定点成形信号加到所述位置设定点信号上而产生所述修改的设定点信号。
7.根据权利要求6所述的工作台系统,其中所述工作台控制系统安排为,通过用设定点成形函数乘所述前馈信号而确定所述设定点成形信号。
8.根据权利要求7所述的工作台系统,其中所述设定点成形函数被选择为用于补偿所述工作台的定位误差,所述定位误差基本上等于所述前馈信号乘所述工作台的转移函数部分,所述转移函数部分用于模拟所述工作台的所述非刚体特性。
9.一种光刻设备工作台控制方法,该方法用于响应于位置设定点信号控制可移动工作台的位置,该方法包括:
采用具有设定点输入的反馈控制环,以反馈方式控制所述工作台的所述位置;及
产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号,所述前馈信号从所述位置设定点信号导出,
其中所述位置设定点信号被修改为修改的位置设定点信号,所述反馈控制环的所述设定点输入用于接收所述修改的位置设定点信号,所述修改的位置设定点信号用于考虑所述工作台的非刚体特性。
10.根据权利要求9所述的光刻设备工作台控制方法,其中通过将设定点成形信号加到所述位置设定点信号上而产生所述修改的设定点信号。
11.根据权利要求10所述的光刻设备工作台控制方法,通过用设定点成形函数乘所述前馈信号而确定所述设定点成形信号。
12.根据权利要求11所述的光刻设备工作台控制方法,所述设定点成形函数被选择为用于补偿所述工作台的定位误差,所述定位误差基本上等于所述前馈信号乘所述工作台的转移函数部分,所述转移函数部分用于模拟所述工作台的所述非刚体特性。
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